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镀膜问题总汇.doc7页
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真空镀膜工艺问题汇总
1.Al2O3Al2O3溅射镀怎么镀？请问旋转靶磁场加在哪里？
2.一.多弧离子镀做TiAIN膜1.靶材，材质？尺寸？2.偏压，―脉冲，直流对膜有无影响？二.高建钢材质刀具，1.立铣刀的锋利与镀膜前的酸洗工艺存在矛盾。三.多弧炉中结合了磁控柱靶在TiAIN膜制作过程中，可采用或利用其磁控靶的优点进行，四.用高偏压加氢气的辉光放电，是否用对硬膜的形成不利，会影响其硬度吗？是否用离子轰由（加热）来取代此工艺吗？五.靶材中Ti的纯度，对膜质（硬度，外观，粗糙毒等）有无关系？Ti是否对工具镀膜来说是否足够？六.《真空》杂志中有文章介绍，多弧离子镀中用部分铬靶使TiN膜层中含有铬成分，有助于提高膜的硬度和外观的光亮度等那么能否采用钛铬合金靶，达到其效果？七.TiAl拔能否使其合金化，是否合金化后，在蒸发靶材时，清除或减少熔滴的产生？使其多弧离子镀，并产出的TiAIN膜质光亮，致密。
3.相对来说磁控溅射技术比较深奥些，听的不是太懂之前中设接触过磁控技术书面知识比较理论看不透彻，因为专业知识有限喜欢听笼统一点通俗易懂的。 4.1.如何防止靶的电弧放电问题
2.Si靶Ti靶的氧气是否一定要用压电阀来控制吗？3.做高反射钳时Si靶Ti靶的氩气，氧气的比例是多少？4.靶的电弧放电与亮孔是否有联系？5.在同样的工艺条件下，为什么有些会出现膜脱落，有时会出现SiTi膜脱落。
5.镀铝制镜，基片两头打弧，为什么？怎么解决？镀过铝后如何保护？
6.1.由于重复使用的玻璃进行了多次镀膜以后在玻璃表面残存物沉积且由于多次清洗造成玻璃表面划痕增加，最终造成散射光增加反射率降低，如何在不抛光的情况下，改善（提高）反射率？在镀膜工艺上有何可行
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