更多公众号：cepemchina微电子行业信息媒体，致力于打造行业内最具影响力的信息交流平台，关于微电子的一切欢迎一起分享！投稿邮箱：.cn最新文章相关作者文章搜狗：感谢您阅读深度 | 半导体巨头押注的 EUV 光刻，真能拯救摩尔定律吗？（下），本文由网友投稿产生，如果侵犯了您的相关权益，请联系管理员。Intel：14nm已回正轨,7nm工艺2018年到
日 09:23&&&转载：&& 作者:bolvar&& 编辑:牛子儒 分享
　　今年是摩尔定律50周年，Intel公司创始人戈登?摩尔早在1965年提出了一种说法――半导体工业每一年，晶体管密度就会翻一倍。之后这个说法也随工艺发展不断修正，这个说法也被人称为摩尔定律，详情可以参考维基百科的解释。　　Intel目前最新的量产制程工艺是14nm，在这一工艺上Intel进度比预期的慢，Broadwell原本预计在去年中就会发布，现在差不多推迟了一年。Bohr表示目前14nm工艺已经重回正轨，他们在14nm工艺上遭遇的良率问题也让他们汲取了教训，在10nm工艺开发上会努力避免这些问题。　　14nm工艺之后Intel将会推出10nm工艺，之前预计的时间点是2016年，不过此前Intel高管表示10nm工艺会在2017年问世，而10nm之后的7nm工艺，Intel预计的时间是2018年。此外，10nm之后的半导体制造会更复杂，通常需要更先进的制造工艺，比如EUV远紫外光刻技术，不过Intel此前就表示过即便没有EUV，他们也懂得如何开发7nm工艺，这次Mark Bohr院士也有着类似的表态，他们并不依赖EUV工艺。■
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