化学镀镍对基体金属表面镀镍 国标有哪些要求

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这种方法没有 Woods预镀操用得广, 但它可以产生无应力的镀层。 对于要求压应力的高磷和低磷镀层, 最好选用这种预镀方法。另外的优点是它不会沾污化学镀镍溶液,产生氢脆的危险少, 操作和控制也比较容易 。 ③乙醇酸镍配方(操阳极)
酷酸操 测酸 乙醇酸(7o%) 糖精 酷酸销 pH值 电流密度 温度 时问
65g/L 45g/L 60m1/L 1. 5g/L 50g/L 6. 0 2. 7A/dm2 望温 5min
此配方在中性 pH值下操作,对基体不会产生腐蚀, 可以得到低应力的镀层, 其中糖精起降低应力的作用。 (8)浸氨水15s& 把预镀后的零件洗净后,在稀的氨水溶液中浸l5s,可以去除零件表面残留的氯离子。试验证明,采用这一 步, 化学镀镍后零件的腐蚀性能会有显著提高。 (9)化学镀操& 经过上述处理的零件便可以在任何化学镀镍槽中化学镀操 。 (1o)消除应力热处理& 化学镀操后的上述零件应在21o℃左右热处理1~1·5h,以便释放吸附的氢气,消除内应力,提高结合强度, 而且要求这种热处理在镀后尽快进行。
上面的工艺适合于所有的钢种包括不锈钢、 高合金钢和高碳钢等合金元素较高的零件化学镀镍, 可获得结合良好的镀层。 3. 7. 3& 一些碳钢、 合金钢的典型施發工艺 上面介绍的是适合各种碳钢、 合金钢化学镀操的普遍原则, 在具体实施过程中要针对碳钢、 合金钢的成分含量和特性作必要的增减调整, 下面举一些文献报道的这类材料化学镀操的施镀工艺 。 3. 7. 3. 1& 低破钢 ①碱性除油(75~85℃, 5min)。
③碱性电解除油 (阳极或定期反向, 在阳极除油时结束除油) 。 工艺条件:&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&& 温度&&&&&&&&&&&&&&&&& 51~68℃ 电流密度&&&&&&&&&& 2~10A/dm2 时间&&&&&&&&&&&&&&&&& 2min ④清洗(温水)。 ⑤清洗。 ⑥室温浸蚀(在50% HCl和10% H2S04混合液中浸蚀1min)。 ⑦清洗。 ⑧清洗。 ⑨室温下在 0.25%~0.5% (体积)氨水中浸30s。 ⑩化学镀線。 3.7.3.2& 高破钢 ①碱性除油(75~85℃, 5min)。 ②清洗。 ③碱性电解除油(阳极或定期反向,阳极时结束除油)。 工艺条件: 温度&&&&&&&&&&&&&&&&& 51~68°C 电流密度&&&&&&&&&& 2~10A/dm2 时间&&&&&&&&&&&&&&&&& 2~4min或至污斑除尽 ④清洗。&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&江苏无锡化学镀镍厂家_不锈钢金属表面处理专业-化工
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化学镀操和电镀钻后沿柱塞长度方向厚度均匀性的比较, 可见化学镀镍层沿厚度方向的均匀性明显优于电镀。
表S-3& 柱塞化学量镇和电接常后厚度均匀性比较
較层沉积方法&& &&& &沿柱塞长1&& &F方向各段技;&& &1l厚度/um&&&
稳定的化学镀镍层的孔隙率是一个非常重要的参数。孔隙率很大程度上决定了镀层的耐腐蚀性或耐化学腐蚀的能力。其他某些性质如密度、 可焊性和延展性同样也受孔隙率影响。 孔隙对基底和镀层抗腐蚀能力的影响很大。 镀层比基体活泼的金属,会与基体形成局部原电池对,对基体产生阳极(牺牲)保护作用 。 比基体稳定的镀层起不了这种作用, 会通过裂纹或孔隙产生腐蚀。 只有在沉积的这些金属完全无孔状态时, 才能起到真正有效的腐蚀阻挡层的作用。 一般,相同条件下i度层愈厚孔隙率愈小,图5-8为 Novotect 镀液所得镀层的孔隙率, 随着镀层厚度增加, 孔隙率几乎成指数下降,厚度达到3oum以后,孔隙率接近 o。 基底 42℃,4Mo R1约2.7?m
接D「N5l_ S02下3个凱斯特尼奇试验周期
图5-8& Novotect镀层孔隙率与厚度的美系
与相同厚度的电镀层相比, 化学镀镍层的孔瞭率要低得多。 化学镀镍层孔隙率低的原因与其致密的非晶或微晶结构有关。 一般的酸性镀液得到的镀层或镀层厚度达到15um则基本无孔。 从镀层结构可知, 微晶尺寸越小孔隙尺寸也越小, 所以非晶态镀层孔隙率较低。
镀层表面孔隙率还与以下因素有关: (1)施镀工艺& 通常碱浴镀层的孔隙率比酸浴大1~2倍,用肼作还原剂得到的镀层比用次亚磷酸盐高 。 镀速快孔隙率高, 施镀过程中的杂质及悬浮物不仅增加表面粗糙度, 同时也增加孔隙率; (2)較件表面粗糙度& 孔瞭的形成与否取决于表面形貌,镀件表面愈光洁平整其孔隙率越小; (质量)图5-9&& 般态較层密度与磷含量的关系135
(3)热处理& 热处理有助于降低镀层孔隙率。 5. 2. 4& 體层密度 电敏操的密度与熔炼的金属是同样的, 室温下金属纯操的密度为8.9g/cm3,但含磷或硼的化学镀操层密度随磷(硼)含量增加而降低。磷含量小于15% (质量)的镍一磷合金镀层密度计算式为: ρ=(113. 6-cp)/12. 7g/cm3 式中& cp一操一磷合金中的磷含量% (质量)。 由于化学镀線层中含有杂质, 所以不同的工艺得到的同样磷含量的俊层密度也有所不同。图5-9是 ASTM B733总结各种文献数据拟合得出的镀态镀层密度与磷含量关系。 表5_4列出了 DIN 50966和 IS〇4527标准规定的不同磷含量镀层密度的具体数值 。 含磷7·5% (质量)的 Kanigen化学镀镍层中,密度为7.g2~ 8·259/Cm3;含硼5%的 Nibodur镀层平均密度为8.25 g/cm3;用联氨作还原剂形成的镀层密度为8. 5 g/cm3 , 热处理后镀层密度_ 般会略有增加 。★化学镀镍与基体材料★化学镀镍加工|化学镀镍加工厂|铝氧化加工|铝氧化加工厂|青岛铭富圆金属制品厂
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化学镀镍与基体材料
  从化学镀定义可知,化学镀的前提是基体表面必须具有催化活性,这样才能引发化学沉积反应,另一方面化学镀层本身了必须是化学镀的催化表面,这样沉积过程能持续下去,达到所需要的镀层厚度。化学镀镍本身就是化学沉积反应的催化剂,这是毫无疑问的;然而,需要化学镀镍的基体材料几乎可以是任何一种金属或非金属材料。根据对于化学镀镍过程的催化活性,基体材料可分为以下几类:
  第一类  本身具有催化活性的材料;
  第二类  无催化活性的材料;
  第三类  催化毒性的材料;
  对于次磷酸钠化学镀镍液,元素周期表中第VIII族中氢析出反应低超电势的金属:例如铂、铱、铑、钌以及镍,均属于第一类本身具有催化活性的材料。这些金属可以直接化学镀镍。大多数材料属于第二类,无催化活性的材料。这些材料表面不具备催化活性,必须通过在它表面沉积的第一类本身具备催化活性的金属,使这种表面具有催化活性之后才能引发化学沉积。第二类无催化活性材料又可分为三种:      
比镍活泼的金属材料 如金属材料浸入化学镀液时,由于置换反应开始在铁表面上沉积镍,成为引发化学镀反应的成核中心,继而使化学镀镍反应在大面积上持续进行。电位比镍负的金属,除铁之外,还有铝、铍、钛等,但是在生产实践中,为获得足够的镀层结合强度,燕不采用像处理铁金属材料那种直接的方式。  比镍稳定的金属 如铜、银、金等,这些材料的表面上不可能在镀液中发生置换反应而沉积镍,因此必须通过施加阴极脉冲电流或者使被镀表面与一片比镍活泼的金属接触,以便被镀表面沉积上镍从而引发化学沉积反应。
  非金属材料 这些材料必须预先在表面上沉积第一类本身具备催化活性的金属,如浸胶体钯等方法,才能进行化学镀镍。
  铅、镉、铋、锑、钼、汞、硫均属于第三类催化毒性材料。
  基体合金成分中含有这些无素超过某一百分数时,假若浸入镀液,不仅基体表面不可能镀上,还会溶解而且进入镀液的这些材料的离子将阻滞化学镀镍反应,甚至停镀。因此这类材料进入化学镀液之前必须进行预镀,如采用电镀镍或其他方式在其表面形成一层具有足够厚度的完整致密的预镀层;即一方面预镀层具有引发化学镀镍的催化活性,另一方面阻止催化毒性元素的溶出。
基体材料对于化学镀镍反应的催化活性及其分类也不是一成不变的。基体材料在不同的镀液中具有不同的催化活性,特别是受还原剂和镀液pH值影响很大。例如金属钴在碱性次磷酸钠兴中属于本身具备催化活性,属于第一类材料。在次磷酸钠镀液中属于第二类材料的铜、钼、钨、金、银和石墨等基体材料在硼氢化钠镀液中可以直接催化沉积。化学镀液对基体材料的影响也是应该考虑的重要因素之一;镁、铝、锌、铜等到是在强碱性镀液中易腐蚀的基体材料,上述有色金属在中性或弱酸性的胺基甲硼烷镀液中沉积镍硼俣金是比较有利的。同样,某些不耐温的非金属材料,如塑料等应该采用低温化学镀液进行施镀。  
除基体材料的化学成分和性质对化学镀镍有显著影响之外,基体材料的表面形貌的影响也是十分突出的。由于化学沉积是无外加电场的影响,化学镀镍层是十分均匀的,因此对于基体材料的表面原有缺陷和粗糙形貌几乎没有任何整平和掩盖的作用;换言之,只有在少缺陷和表面粗糙度较低的基体材料表面上才能获得高质量的化学镀镍层。}

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