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电感耦合等离子体原理
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3秒自动关闭窗口电感耦合等离子体源
inductively coupled plasma
交替复合深刻蚀,Time Multiplexed Deep Etching (TMDE),音标,读音,翻译,英文例句,英语词典
ocess of bulk titanium was studied in this paper.
采用电感耦合等离子体源(inductively coupled plasma,ICP)技术对金属钛进行三维深刻蚀,采用不同刻蚀掩模、氯基刻蚀气体,研究了线圈功率、平板功率和Cl2流量对刻
基于1个网页-
Inductively Coupled Plasma Source
小功率微波等离子体的分析--本科毕业论文,本科毕业论文网,本科毕业论文格式,本科毕业论文免费下载,本科毕业论文范文
率高而且无电极污染白勺小型化等离子体源。这种小功率微波等离子体源一般分为电容耦合和电感耦合等离子源,其中电感耦合等离子体源(Inductively Coupled Plasma Source, ICPS)因为具有构造简单,离子能量和等离子体密度等参数可控,无电极污染,工作稳定等优点被愈加广泛白勺使用和分
基于1个网页-
low power inductively-coupled microwave plasma source
Inductively Coupled Plasma (ICP)
建立了一个研究电感耦合等离子体源（ICPS）特性的数学模型，叙述了质点网格（PIC）法的原理。
A mathematical model is developed to study the properties of the inductively coupled plasma sources(ICPS).
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- 来自原声例句
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