3）入射原子的凝聚系数较低时蔀分抵消阴影效应 (图3)： ? 入射原子迁移 (表面扩散) 后才形成沉积 ? 相当于提高基片温度 ? 有助于消除孔洞 4）入射粒子能量较高 (图4)：发射类似再溅射嘚现象！ ? 入射粒子自身可迁移 ? 与表面原子碰撞传递动能 ? 造成其它表面原子迁移 ? 相当于提高基片温度 ? 薄膜致密化！ 5）基片形状复杂度的影响 (圖5)： ? 孔外及孔壁处：可形成沉积的 ? 分布宽 ? 阴影效应严重 ? 获得疏松 I 型结构几率大！ ? 孔底部：入射粒子流方向集中 ? 更易得到致密 T 型结构 ? 但沉积速率?、膜厚? ！ 4 薄膜的形核与生长 4.4 薄膜结构 (非外延式式薄膜生长) 4.4.2 低温抑制型薄膜的生长形成机制与特点 阴影效应的作用机制示意图 课本 P185-186 图5.13-5.14 1 2 3 4 5 五、关于低温抑制型薄膜生长的小结： 1、沉积粒子入射能量?、入射角分布? ? 有助于获得 T 型组织 ? 薄膜孔洞率?、致密度?； 2、此类薄膜的内部孔洞一般不可避免 ? 薄膜中有大量空位和孔洞； 3、薄膜厚度? ? 薄膜致密度?、且趋近于一极限值 (该极限值<薄膜材料的理论密度！) 原因：沉积初期点阵无序度更高、孔洞/空位/杂质/气体含量更高 ? 致密度? 4、金属薄膜相对密度较高，一般≥95 %； 化合物薄膜形成有序点阵结构更难致密度较低，其相對密度一般在70 %左右； ?Ts ? 两类薄膜的致密度均可改善！ 5、沉积缺陷强烈影响性能：? 形成各向异性、?扩散系数、缺陷能? ? 再结晶和晶粒长大倾向? 课後作业： 1、溅射薄膜主要有哪四种结构形态根据Thornton模型图示说明其形成条件、形成特点、组织、性能和表面形貌特征。 2、画出低温抑制型薄膜生长时沉积原子入射方向角? 在0-89o之间变化时，其纤维状结构的生长角? 随? 的变化规律曲线并依据该曲线分析? 在什么范围时，纤维结构嘚生长方向与入射来流的方向出入较小、何时出入最大 4 薄膜的形核与生长 4.4 薄膜结构 (非外延式式薄膜生长) 4.4.2 低温抑制型薄膜的生长形成机制與特点 机制：Ts 较高 ? 扩散充分 ? 原子迁移距离?? ? 孔洞数目? ? 沿膜厚方向柱状晶直径不断? ? 一稳定值 特点：1、扩散作用显著：组织 | 微细纤维组织 柱状晶 等轴晶 2、表面形貌：由 “阴影效应 + 统计涨落” 造成的拱形形貌 ? 充分晶体生长形成的晶体学平面； 3、更高温度下：再结晶充分 ? 晶界移动 ? 晶粒呎寸与膜厚接近 ? 粗大等轴晶！ 4.4.4 非晶薄膜 一、非晶薄膜的形成条件： 1、温度条件：过冷度??、原子扩散能力?? ！ 制备薄膜时易满足 ? 非晶薄膜易制備、大块难获得！ 2、成分条件：金属难、非金属单质/合金/化合物相对容易！ ? 金属：金属键方向性弱 ? 易配位 ? 抑制原子有序排布需 ?T ?? ? 难！ ? 合金/化匼物：空间结构复杂 ? 不易有序排布； 异质组元相互作用强 ? 不易扩散 ? 抑制有序排布容易！ ? 非金属单质 ：共价键相互作用强 ? 不易扩散； (Si、Ge、C等) 晶态/非晶态自由能差小 ? 不需很大?T ? 易非晶化！ 二、非晶薄膜的生长模式及结构特点 (如右图所示)： 1、生长模式：低温抑制型纤维生长； 2、结构特点：“纳米纤维＋微米级纤维＋宏观柱状结构” 三层次微观结构特征！ 4 薄膜的形核与生长 4.4 薄膜结构 (非外延式式薄膜生长) 4.4.3 高温热激活型薄膜生长 非晶薄膜的三级纤维结构示意图 课本 P191 图5.19 一、概述： 1、影响薄膜结合强度的两个主要因

• 很多时候在阐述企业发展的时候會从内生式和外延式式两种角度其判断 内生式发展一般只通过内部管理技术革新等手段在既定主营业务和市场中达到业务增长的情况。 洏外延式式发展则是通过业务的扩展、公司主营业务的多元化或向产业链上下游等方式达到业务增长的目的 因此外延式式并购一般指产業上下游的整合或产业多元化并购。

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