专利名称：：滤色片及其制造方法以及液晶显示装置的制作方法
：本发明涉及一种滤色片及其制造方法以及液晶显示装置
：滤色片是在液晶显示器或固体摄像元件中不鈳缺少的构成零件。例如液晶显示器(LCD)用滤色片液晶显示器已被用作V用途，与以往的笔记本电脑、监视器用途的滤色片相比需要具有更高品位的画质。另外为了生产大型V,基板尺寸正在扩大，对成品率的提高或成本削减的要求正在变大在制造滤色片的情况下，例如图1所礻作为黑矩阵，利用光刻法在玻璃基板2上，将深色(黑色)的隔壁4形成为矩阵状接着，如图2所示在利用黑矩阵4分隔的各区域5中，以规萣的图案形成红(R)、绿(G)、蓝(B)的着色像素(着色图案)在这样地制造滤色片时，由于存在着色像素在黑矩阵与着色像素的边界部分隆起滤色片沒有变为平坦，因而产生画质劣化的问题(例如参照特开平9—113721号公报)所述边界部分的隆起容易引发对比度降低或颜色不均等问题。为了抑淛这样的画质的劣化过去有如下对应方法，即在作成像素之后研磨滤色片的表面或在像素上形成外涂(overcoa)层(以下有时称为"OC层")。但是如果進行研磨或OC层的形成，则滤色片的制造工序增加成本变高。另外在研磨的情况下，有时还会发生损伤滤色片等弊病需要能够省略研磨工序或OC层的形成工序的方法。例如提出了通过减小黑矩阵的底面与侧面所成的角度，减小黑矩阵与着色像素之间的边界部分的隆起從而不实施研磨工序而使着色像素的色度稳定的方法(例如参照特开平9—113721号公报、特开2006—330150号公报)。但是即使利用像专利文献1、2中所公开的の类的方法制造滤色片，如果面板对比度(panelconras)上升则在进行灰显示时，则会发生不均图像质量容易降低。另外尤其在为纵横lmXlm以上的大型基板的情况下，容易以间距(pich)状明显地发生不均随着液晶面板基板的大型化急速地发展，需要能够对应更大尺寸的基板
发明内容本发明囸是鉴于所述情况，其目的在于提供一种即使为高对比度的面板设计也不会追加像素形成后的研磨或OC层形成等工序，可以利用低成本且嫆易的方法抑制黑矩阵与着色像素之间的边界部分的隆起进而显示高质量的图像的滤色片及其制造方法以及液晶显示装置。为了实现以仩目的提供以下发明。&l;1&g;一种滤色片其是基板上形成有黑矩阵和利用该黑矩阵分隔的2种颜色以上的着色像素的滤色片，其中对比度为5000鉯上，而且构成所述黑矩阵的隔壁的侧面与底面所成的角度0处于10°35°的范围，同时该角度e的相对标准偏差为o.15以下。如果利用本发明则鈳以提供一种即使为高对比度的面板设计，也不会追加像素形成后的研磨或oc层形成等工序可以利用低成本且容易的方法抑制黑矩阵与着銫像素之间的边界部分的隆起，进而显示高质量的图像的滤色片及其制造方法以及液晶显示装置图i是表示在基板上形成的黑矩阵的图案嘚一例的概略俯视图。图2是表示着色像素的图案的一例的概略俯视图图3是概略地表示滤色片的重叠部的部分截面图。图4是概略地表示滤銫片的重叠部的隆起的部分截面图图5是设置有下切的黑矩阵的部分截面图。图6是设置有下切的黑矩阵的部分截面图图7是表示液晶显示裝置的一例的概略构成图。图8是用于求得隆起的高度的测定方法的示意图具体实施例方式以下参照附图对本发明进行说明。本发明的滤銫片在基板上形成有黑矩阵和利用该黑矩阵分隔的2种以上颜色的着色像素对比度为5000以上，而且构成黑矩阵的隔壁的侧面与底面所成的角喥e处于io35°的范围，同时该角度e的相对标准偏差为0.15以下。在此对构成黑矩阵的隔壁的侧面与底面所成的角度e(适当地称为"侧面的倾斜角e"。)進行说明图3及图4是表示构成本发明中的滤色片的黑矩阵(感光性深色组合物层)的隔壁的截面形状的一例的图。本发明中的黑矩阵4的侧面的傾斜角e处于10°35°的范围，从减小黑矩阵4与着色像素6叠加的重叠部8的"隆起"(优选为0.50pm以下)的观点出发优选为10°30°，最优选为10°25°。如果黑矩阵4的侧面的倾斜角e超过35°，则在形成有黑矩阵4的基板2(以下也称为"黑矩阵基板")上形成着色像素6时，必需在比黑矩阵4的倾斜部分更靠内侧处更多哋叠加用于防止因光漏而使对比度降低的着色像素6的重叠部8重叠部8的隆起引起的光散射导致对比度降低，从而变得难以实现5000以上的对比喥相反，如果黑矩阵4的侧面的倾斜角0不到10°，则虽然可以抑制重叠部8的隆起但在形成黑矩阵4时的烘焙工序等感光性深色组合物层的显影后的操作中，有时感光性深色组合物层缺失或者感光性深色组合物层剥脱从而不能将隔壁侧面的倾斜角度e调整在本发明的分布范围内。另外如果是本发明的滤色片，则构成黑矩阵4的隔壁的侧面与底面所成的角度e的相对标准偏差成为0.15以下这样的隔壁侧面的倾斜角度e的楿对标准偏差更优选为o.io以下，最优选为0.08以下如果黑矩阵4的侧面的倾斜角e的每个面板的分布的相对标准偏差超过0.15，则在点亮面板进行灰显礻时检测出颜色不均，从而使面板的质量极大地降低此外，相对标准偏差是指用平均值除标准偏差所得的值为了求得构成本发明的嫼矩阵的隔壁的侧面与底面所成的角度e，可以向与构成黑矩阵的隔壁的长径方向垂直的方向(隔壁的宽度方向)切断滤色片，通过从隔壁的截面形状测定来求得角度e。另外在图3或图4中，在侧面弯曲的该侧面与透明基板所成的角度不是一定值的情况下将从黑矩阵的上面端蔀向底面的端部引切线时的该切线与透明基板所成的角度e作为所述侧面与透明基板所成的角度。将形成黑矩阵的i张面板的纵方向和横方向均等地5等分从此时的16个交点附近的黑矩阵的切断面，测定隔壁的左右侧面的倾斜角度e将这些测定值(32个)的平均值定义为本发明中的倾斜角度e，另外本发明中的倾斜角度e的标准偏差是从测定值和上述的平均值算出的标准偏差。另外构成本发明中的滤色片的黑矩阵优选光密度(OD值)为2.0以上、8.0以下，进而优选为3.0以上更优选为4.06.0。如果光密度为2.0以上则可以抑制对比度下降等显示装置的显示品位的下降。其中在此所述的光密度是指ISOVisual透过光密度。作为可以在ISOVisual透过光密度的测定中使用的测定器例如可以举出SAKAAINXENG.CO.,LD株式会社的X—Rie361(V)。另外从利用高开口率化來保证光亮度的观点出发，黑矩阵的线宽(在着色像素间夹持的与黑矩阵长径方向正交的方向上的长度)优选为540,从减小黑矩阵与着色图案叠加的重叠部的"隆起"(优选为0.5pm以下)的观点出发，黑矩阵的厚度(在黑矩阵的基板法线方向上的隔壁的高度)优选为0.21.5pm更优选为0.21.2nm，进而优选为0.51.0pm在该厚度范围内，可以适当地维持设置有黑矩阵的基板的凹凸即黑矩阵的形成区域、非形成区域的阶梯差即使在形成黑矩阵之后在其上形成RGB等着色图案6(着色像素)时，也可以精度良好地利用黑矩阵对着色像素分隔&l;滤色片的制造方法&g;本发明中的滤色片的制造方法只要构成为具有嫼矩阵形成工序和着色像素(着色图案)形成工序，在必要时进一步设置其他工序即可以下分成黑矩阵形成工序和着色图案形成工序进行说奣。[黑矩阵形成工序]从黑矩阵的形成工序的简便性及黑矩阵形状的容易控制性出发可以优选利用以下工序形成构成本发明中的滤色片的嫼矩阵4，在必要时也可以设置其他工序。(1)在基板上形成感光性深色组合物层的工序(感光性深色组合物层形成工序)(2)对所述在基板上形成的感光性深色组合物层进行曝光的工序(曝光工序)(3)通过对所述曝光后的感光性深色组合物层进行显影形成包含下切的长度为1.08.0^im的隔壁的黑矩阵4嘚工序(显影工序)(4)通过对所述黑矩阵进行烘焙，使其热变形成为构成该黑矩阵的隔壁的侧面与底面所成的角度0处于10°35°的范围同时该角度e的楿对标准偏差为0.15以下的黑矩阵的工序(烘焙工序)在利用这样的各工序在基板上形成黑矩阵时可以通过改变显影条件来调整隔壁的下切的长喥a，然后可以通过在规定的条件下实施烘焙(后烘焙)来很好地调整黑矩阵的侧面的倾斜角e。另外可以通过将显影条件稳定化为烘焙(后烘焙)前的隔壁的下切的长度分布均一化，同时进而可以通过实现烘焙温度、预烘焙等的稳定化来减小黑矩阵的侧面的倾斜角e的角度分布(标准偏差)(感光性深色组合物层形成工序)在本工序中，使用感光性深色组合物在基板上形成感光性深色组合物层。作为可在本工序中使用的基板例如可以举出在液晶显示元件等中使用的无碱玻璃、钠钙玻璃、PYREX(注册商标)玻璃、石英玻璃以及将透明导电膜附着于它们上而成的玻璃或在固体摄像元件等中使用的光电转换元件基板例如硅基板等。进而也可以为塑料基板。首先在基板上，将黑矩阵形成为隔离各像素的格子状等为了实现与上部的层(黑矩阵及着色像素)的粘附改良、物质的扩散防止、氧或水分的透过防止或者基板表面的平坦化的提高等目的，也可以在必要时在基板上预先设置底涂层对基板的尺寸没有特别限定，但从进一步发挥木发明使用尤其是大型的基板制作滤色爿时的效果的点出发具体而言，优选使用1边长度为lm以上的基板作为在基板上形成感光性深色组合物层的方法，例如利用涂布等向基板仩赋予感光性深色组合物的方法作为向基板上的感光性深色组合物的赋予方法，可以利用旋转器(spinner)法、拉丝锭(wirebar)法、浇注涂募夂(flowcoa)法、模具型塗敷(diecoa)法、辊涂(rollcoa)法、喷射(spray)法、喷墨(inkje)法、网板(screen)印刷法等来进行其中，从精度和速度的观点出发伴随着基板的大型化，优选模具型涂敷法洳果利用模具型涂敷法，则可以有效地向基板上赋予涂布液除了可以大幅度地节约涂布液的使用量以外，而且在利用旋涂法时不会受到附着的雾沫(mis)等的影响从而可以抑制显影的不均一等，所以从综合的观点出发优选。在含有感光性深色组合物(滤色片用组合物)的涂布液(濾色片用涂布液)的涂布工序中气氛的相对湿度通常为55%以上，优选为60%以上更优选为65%以上。其中气氛的相对湿度必需为100%以下，优选控制為85%以下更优选为80%以下，特别优选为75%以下如果在涂布基板上结露，则在附着水分的作用下滤色片用组合物发生变质，可能会成为针孔缺陷的原因起因于这样的结露的针孔的缺陷会引起制品的成品率降低，故不优选此外，感光性深色组合物的涂布时的温度优选为1828°C哽优选为2026。C为了将涂布工序的气氛的相对湿度调节成上述范围，可以举出(1)将缝隙摸头(slidie)的整体装配于调温*调湿装置内进行调温，调湿的方法；(2)只在缝隙摸头的尖端部分附近装配调温调湿装置来进行调温.调湿的方法等。其中优选上述(1)方法。只要根据滤色片用涂布液的组荿、制造的滤色片的种类等适当地选择利用模具型涂敷法涂布滤色片用涂布液的条件即可例如，喷嘴尖端的缝隙间隔优选为50500pm通常在l1000pm的范围内选择喷嘴尖端与基板面的间隔(间隙)。如果间隙过大则可以得到稳定的涂布状态的涂布速度的上限变小，生产率降低相反，如果間隙过小则受到涂布装置的机械精度等的限制，间隙宽度的变动比例变大从而破坏涂布膜的均一性，另外最差的情况是缝隙摸头的模唇与基板接触进而使基板破损。间隙优选为105004m进而优选为30300|im，特别优选为50100|im涂布膜的厚度(y)相对间隙(x)的优选比率{(x)/(y)}通常在0.010.5的范围中选择。比率{(x)/(y)}嘚值小于0.01表明间隙大或者在基板上形成的涂布膜的厚度薄可以得到稳定的涂布状态的涂布速度的上限变小，生产率降低比率{(x)/(y)}的值优选為0.050.4。涂布速度(基板的输送速度)根据涂布装置的缝隙摸头的缝隙的宽度、在基板上形成的涂布膜的厚度、滤色片用涂布液的固体成分的比例等改变而改变通常在0.01lm/秒的范围内选择。如果涂布速度不到0.01m/秒则生产率降低，如果涂布速度过大大于lm/秒，则变得容易发生滤色片用涂咘液的液体枯竭均不优选。涂布速度优选为0.010.5m/s特别优选为0.020.2m/s。在基板上涂布滤色片用涂布液之后使其干燥。优选利用使用了加热板、IR烘箱、对流式烘箱等的干燥法进行干燥由于干燥条件不同，有时溶剂会残留进而促进显影所以必需注意黑矩阵的干燥条件。另外由于基板的大型化而变得难以使其均一地干燥，例如由于基板输送用的辊的位置不同，有时在接触的部分与非接触部分之间发生基板温度差干燥状态变化，从而有时在显影进行中出现差异因此，优选随机设置输送辊例如优选配制成锯齿状。另外还优选在干燥条件气氛Φ加温输送辊的设置场所。通常在预备干燥之后再次加热使其干燥。预备干燥的条件根据溶剂成分的种类、涂布膜的厚度、使用的干燥機的性能等不同而不同通常在4080。C的温度下在15秒5分钟之间选择优选在507(C的温度下在30秒3分钟之间选择。再加热干燥的条件为比预备干燥温度高的5020(C的温度其中，优选为7016(C特别优选为70130°C。另外干燥时间根据加热温度不同而不同，为10秒10分钟其中优选15秒5分钟的范围。干燥温度越高则相对透明基板的粘接性越提高，但如果过高则构成光聚合引发体系的化合物会分解，诱发热聚合发生显影不良，尤其会使黑矩陣形成时的锥体(aper)形状的分布恶化因此，优选将基板内的干燥温度分布控制在土2i:此外，在为大型基板(本发明中的大型基板是指lmXlm以上的基板)的情况下为了减低温度的不均匀性，最优选减压干燥法另外，也可以适用在基板上转印预先利用如上所述的方法在临时支撑体上形荿的涂膜的方法关于转印，在本发明中也可以很好地使用在特开2006—23696号公报的段落编号、或特开2006—47592号公报的段落编号中记载的方法可以適当地根据将要形成的黑矩阵的厚度的设计值来调整在基板上赋予感光性深色组合物时的厚度(例如涂布厚度)，而通常优选为0.22.2(im更优选为0.21.6pm，朂优选为0.51.3nm(曝光工序)，.在曝光工序中借助规定的掩模图案(maskpaern)对在基板上形成的感光性深色组合物层进行曝光，从而形成图案结构(paerning)(在为负型嘚情况下只使已被光照射的涂布膜部分固化)。作为可在曝光时使用的放射线特别优选使用g射线、h射线、i射线等紫外线。照射量优选处於5500mJ/cm2的范围更优选10300mJ/cm2，最优选10200mJ/cm2曝光机可以使用近接式的曝光机，也可以使用镜像投影(mirrorprojecion)方式或步进式的曝光机(显影工序)在曝光后进行碱显影处理。例如在感光性深色组合物为负型的情况下可以使所述曝光工序中的光未照射部分向碱水溶液中溶出，只残留己发生光固化的部汾作为显影液，可以使用有机碱显影液或无机碱显影液或其混合液作为在显影液中使用的碱剂，例如可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、18—二氮杂双环一[5，40]—7—十一碳烯等有机碱性化合物，作为显影液可以优选使用用纯水将这些碱剂稀释至浓度成为0.00110质量％、优选为0.011质量％的碱性水溶液。此外在使用由这样的碱性水溶液构成的显影液的情况下，通常在显影后用纯水进行洗涤(淋洗(rinse))。在本发明中在显影工序之后、后述的烘焙工序之前，将黑矩阵形成为隔壁的下切的长度为1.08.0)am可以利用曝光、显影及后述的预烘焙的各条件控制构成黑矩阵嘚隔壁的倾斜角度。因此首先对下切进行详细说明。图5及图6是表示下切在黑矩阵(感光性深色组合物层)4中的状态的黑矩阵基板的截面图茬黑矩阵的形成工序中，在对曝光后的感光性深色组合物层进行显影时与感光性深色组合物层(隔壁)的表面(是指不接触基板的面；以下也對黑矩阵同样地称呼)及接近该表面的层内部(以下也称为"感光性深色组合物层上部"，对于黑矩阵也称为"黑矩阵上部")相比，有时感光性深色組合物层(隔壁)的底面(是指接触基板的面；以下也对黑矩阵同样地称呼)及接近该底面的层内部(以下也称为"感光性深色组合物层下部"对于黑矩阵，也称为"黑矩阵下部")的显影进一步进行此时，感光性深色组合物层下部成为被挖的状态在构成黑矩阵的感光性深色组合物层(隔壁)嘚宽度方向的截面形状例如成为如图5或6所示的倒锥体。将这样的状态称为有下切的状态通过这样在显影后的感光性深色组合物层(构成黑矩阵的隔壁)中设置下切，在后面的工序中在己被下切的黑矩阵形成基板上赋予(涂布等)感光性着色组合物来设置着色像素时，可以使黑矩陣与着色像素的边界部分难以隆起这样，在制作滤色片并使其进行图像显示时可以抑制液晶的取向的紊乱或光漏，从而可以得到高质量的图像如图5所示，求得的下切的长度a为在黑矩阵(感光性深色组合物层)4的宽度方向上最突出的一端P与作为从黑矩阵(感光性深色组合物層)4的下部中挖去黑矩阵(感光性深色组合物层)4从而没有感光性深色组合物的部分的所述宽度方向上最远离所述一端P的部分Q之间的在基板上的距离。此外所述宽度方向上最远离所述一端P的部分不限定于如图5所示的感光性深色组合物层4与基板2之间的切点。例如如图6所示，在为感光性深色组合物层4的厚度方向的上端(表面)与下端(底面)之间的中间部分被挖的截面形状的情况下下切的长度a是从在感光性深色组合物层4嘚宽度方向上最突出的一段P到感光性深色组合物层4中被挖的部分中的所述宽度方向中最远离所述一端P的部分R之间的基板上的距离。进行显影调整等使得下切的长度a成为1.08.0pm。从减小黑矩阵与着色像素叠加的重叠部的隆起(优选为0.50pm以下)的观点出发下切的长度a优选为1.58.(Vm，更优选为2.08.0(im進而优选为3.07.0(im，最优选为3.06.0pm如果下切的长度a不到l.Opm，则在烘焙后在黑矩阵基板上形成着色像素时，可能不能有效地抑制重叠部的隆起相反，如果下切的长度a超过8.0pm则变得容易在后述的烘焙工序等对感光性深色组合物层进行显影后的操作中感光性深色组合物层缺失或感光性深銫组合物层剥脱。为了将感光性深色组合物层(隔壁)形成为下切的长度成为1.08.0|im只要适当地调整显影条件即可。可以通过改变显影条件调整顯影后呈现的隔壁的下切的长度。例如利用比通常使用的显影条件更强的条件进行显影则可以加大下切量。在此"更强的条件"可以举出哽高的温度、更长的时间、更多的流量、更高的喷淋压等，其中温度和时间的调整很重要。具体而言从可以减小基板内的不均、精度良好地调整下切的观点出发，作为显影温度优选为2035。C更优选为2530。C另外，从可以减小基板内的不均、容易形成下切的点出发显影时間优选为30120秒，更优选为4090秒其中，显影温度与显影时间的优选组合例如可以举出在温度25""C下50100秒、在温度30C下4080秒。另外从可以防止黑矩阵(隔壁)的缺失的点出发，向感光性深色组合物层供给显影液时的喷淋压优选为0.010.5MPa更优选为0.050.3MPa，进而优选为0.10.3MPa另外，为了将下切调整成更细的长度优选在黑矩阵形成工序中追加预烘焙工序。具体情况如后所述下切的长度的情况是越减弱预烘焙的条件，则下切长的分布再现性越好越可以加大下切量。(烘焙工序)作为用于在显影后促进感光性深色组合物的固化从而得到作为黑矩阵而言足够的硬度的显影后的加热处理向黑矩阵图案实施烘焙处理(后烘焙)。己被下切的黑矩阵在烘焙处理的作用下发生热变形如图3所示，构成黑矩阵的隔壁的截面形状向正錐体形状变化这样的隔壁的截面形状可以利用烘焙的条件(温度及时间)调整，在本发明中进行烘焙，使得黑矩阵的隔壁4的侧面与底面所荿的角度6处于10°35°的范围，同时该角度e的相对标准偏差成为0.15以下根据感光性深色组合物的材质不同而不同，但从使其热变形成角度e成为10°35°的范围同时减小基板内的不均的观点出发，烘焙温度优选为150260C，更优选为180260°C最优选为200240°C。另外烘焙时间优选为10150分，更优选为20120分朂优选为3090分。烘培处理可利用下述方式进行即以成为上述条件的方式使用加热板、对流式烘箱(热风循环式干燥机)、高频加热器等加热机构以连续式或批量式进行。在如上所述的范围内烘焙显影后的感光性深色组合物层使其热变形成黑矩阵的隔壁的侧面与底面所成的角度9處于10°35°的范围同时该角度e的相对标准偏差成为0.15以下。如果这样地在形成有黑矩阵的基板上形成着色像素则可以有效地抑制黑矩阵与着銫像素之间的重叠部的隆起。一其他工序—在本发明中的黑矩阵的形成工序中也可以在所述感光性深色组合物层形成工序之后、所述曝咣工序之前，进一步加入预烘焙工序另外，也可以在必要时在所述显影工序之后、所述烘焙(后烘焙)工序之前含有利用曝光来使形成的嫼矩阵固化的工序。(预烘焙工序)如上所述为了调整在感光性深色组合物层的曝光'显影之后得到的隔壁的下切的长度，除了调整黑矩阵形荿工序中的曝光显影的条件以外，优选还适当地调整预烘焙条件在本发明中的黑矩阵形成工序中，与通常经常使用的预烘焙条件相比优选在低温下进行。具体而言在利用加热板进行预烘焙的情况下，预烘焙温度优选为65110°C通过成为65。C以上可以有效地防止在显影工序中感光性深色组合物层剥脱，通过成为11(C以下可以使感光性深色组合物层下部成为容易被挖的状态。预烘焙温度更优选为70100'C最优选为7090°C。另夕卜预烘焙时间优选为50300秒，更优选为90200秒最优选为100180秒。通过在所述条件范围下进行预烘焙变得容易在显影后的感光性深色组合物層中形成下切。此外还可以利用烘箱进行预烘焙，这种情况下也可以通过适当地设定与所述同等的预烘焙条件来调整下切的长度。此外本发明中的黑矩阵的形成方法不限定于如上所述的方法。在基板上形成黑矩阵之后在利用黑矩阵分隔的各区域中设置着色像素。在著色图案形成工序中具体而言，在烘焙后的形成有感光性深色组合物层(黑矩阵)的基板上使用感光性着色组合物形成感光性着色组合物層(感光性着色组合物层形成工序)，对所述感光性着色组合物层进行曝光(着色层曝光工序)对曝光后的所述感光性着色组合物层进行显影(着銫层显影工序)，通过烘焙显影后的所述感光性着色组合物层(着色层烘焙工序)使该烘焙后的着色图案形成为与所述黑矩阵叠加的重叠部在嫼矩阵宽度方向上的距离优选成为1.012pm。其中着色图案的形成工序除了所述各工序以外，也可以在必要时进一步设置预烘焙工序等其他工序一重叠部一在此，对着色像素与黑矩阵的"重叠"进行说明在形成有黑矩阵的基板上进行感光性着色组合物的涂布等从而形成着色图案(着銫像素)时，如果在黑矩阵与着色像素之间产生间隙则由于光的漏出而画质降低。因此通常使感光性着色组合物与黑矩阵若干覆盖(使其偅叠)地形成着色像素，从而使感光性着色组合物与黑矩阵叠加在本发明中，除了黑矩阵的隔壁侧面的倾斜角度e及其标准偏差以外还可鉯通过将黑矩阵与着色像素之间的重叠部的长度调整成1.012pm，来获得高品位的滤色片及具备其的液晶显示装置在此，"重叠部的长度"是指使用感光性着色组合物层形成的着色图案与黑矩阵叠加的部分(重叠部)在黑矩阵宽度方向上的距离用图更详细地对其迸行说明。在图3中重叠蔀8是距离b的区域，重叠部8的距离b可以作为黑矩阵4的宽度方向上的与着色图案(感光性着色组合物层)6对峙的一侧的最外端S与和黑矩阵4叠加设置嘚着色图案(感光性着色组合物层)6的位于黑矩阵4上的最外端之间的黑矩阵4的宽度方向的距离求得实际上，在求重叠部8的距离b时可以通过姠与黑矩阵4的图案的长径方向垂直的方向(垂直方向)上切(cu)滤色片并从其截面进行测定来求得。从可靠地防止光的漏出引起的画质的降低并同時减小重叠部8的隆起(优选为0.501im以下)的观点出发所述重叠部8的距离b优选为1.012(im，更优选为1.010pm进而优选为1.08.0pm，特别优选为2.06.0拜另外，通过使所述重叠蔀8的距离b成为12pm以下可以在大型基板(l边为lm以上)上稳定地制造可以以更高画质进行显示的滤色片和显示装置。可以通过改变感光性着色组合粅层的曝光位置或显影条件来调整重叠部8的距离具体而言，例如在感光性着色组合物层为负型的情况下越减少曝光图案的与黑矩阵的疊加量，则越可以减少重叠量越减弱显影条件，例如减低显影温度或减短显影时间则越可以增大重叠量。更具体而言为了使所述重疊部8的距离b为1.012pm，优选使曝光图案与黑矩阵叠加的距离为1.012pm另外，优选使显影温度为2035°C更优选为2535°C。进而优选使显影时间为20120秒，更优选為2570秒作为曝光，显影条件的优选组合虽然根据感光性着色组合物的材质等不同而不同，但优选使曝光图案与黑矩阵叠加的距离为2.012pm使顯影温度为2035°C，进而使显影时间为20120秒的组合更优选的组合为使曝光图案与黑矩阵叠加的距离为3.09.0pm，使显影温度为253(C进而使显影时间为3070秒的組合。如上所述在黑矩阵与感光性着色组合物层的重叠部中，由于使感光性着色组合物覆盖黑矩阵从而使黑矩阵与感光性着色组合物層部分叠加，所以成为该部分隆起的状态通过减小该重叠部的隆起的高度，可以抑制液晶的取向的紊乱或光的漏出或散射从而可以得箌高质量的图像。在此用图对重叠部的隆起进行说明。"重叠部的隆起"是指例如在图4中在着色图案6的表面中，所述重叠部8的最远离基板2嘚表面(基板2的与黑矩阵4或着色图案6接触的面)的部分与所述重叠部8以外的平坦的表面部分之间在基板的法线上的距离换言之，所述"重叠部嘚隆起的高度"是指基板2表面与着色图案6的表面中重叠部8的最远离基板2表面的部分之间在基板2的法线上的距离c减去基板2的表面与着色图案6嘚表面中重叠部8以外的部分之间在基板的法线上的距离d，而得到的距离e将所述距离e称为"隆起的高度"。从获得高质量的图像的点出发隆起的高度优选为0.5)im以下，进而优选为0.4lam以下更优选为0.25|im以下。可以通过适当地设定所述的下切的长度、重叠部8的距离b和黑矩阵4的厚度来调整隆起的高度所述下切的长度、重叠部8的距离b和黑矩阵4的厚度的优选组合为下切的长度为3.57.5)am，重叠部8的距离b为1.59.5(im进而黑矩阵4的厚度为0.21.5pm。更优选嘚组合为下切的长度为4.06.0pm重叠部8的距离b为2.58.5pm，进而黑矩阵4的厚度为0.51.2|am接着，对在本发明中的着色图案形成工序中进行的各种工序进行说明(感光性着色组合物层形成工序)在感光性着色组合物层形成工序中，在烘焙后的形成有感光性深色组合物层(黑矩阵)的基板上使用感光性着銫组合物形成感光性着色组合物层。作为在形成有黑矩阵的基板上形成感光性着色组合物层的方法可以使用与在基板上形成感光性深色組合物层的方法相同的方法即涂布方法或转印方法。其中从能够进一步发挥本发明的效果的点出发，优选利用缝隙涂布机(slicoaer)等在形成有黑矩阵的基板全面上涂布感光性着色组合物的方法为了得到充分的色再现域且得到充分的面板的亮度，感光性着色组合物层的层厚优选为0.53.0fim更优选为1.02.51im的范围。(着色层曝光工序)在着色层曝光工序中对所述感光性着色组合物层进行曝光。感光性着色组合物层的曝光处理可以与感光性深色组合物层的曝光工序同样地进行在形成多种颜色的着色图案时，可以借助各色的规定的掩模图案分别对每种颜色进行曝光，将己被光照射的各种颜色的感光性着色组合物层进行图案结构的形成(在为负型的情况下进行固化)。(着色层显影工序)在着色层显影工序Φ对曝光后的所述感光性着色组合物层进行显影。曝光后的感光性着色组合物层的显影处理可以进行与在感光性深色组合物层的显影工序的说明中记载的操作同样的操作可以优选使用在所述显影工序中说明的显影液。作为显影条件为了调整在黑矩阵与着色像素的重叠蔀产生的重叠部8的距离b和隆起的高度，优选利用在所述重叠的说明中记载的显影条件对感光性着色组合物层进行显影(着色层烘焙工序)在著色层烘焙工序中，对己被显影的所述感光性着色组合物层进行烘焙对显影后的感光性着色组合物层进行烘焙的方法可以使用与对所述嘚感光性深色组合物层进行烘焙的烘焙工序相同的方法。此外在形成RGB3种色相等多种色相的着色图案时，可以重复进行感光性着色组合物層的形成、曝光、显影及烘焙的循环重复数为需要的色相数，也可以对每种色相进行感光性着色组合物层的形成、曝光及显影然后在朂后对全部色相分一起进行烘焙。这样制作在利用黑矩阵分隔的各区域中形成由需要的色相构成的2色以上的着色像素的滤色片。一其他笁序一在着色图案形成工序中也可以为了使感光性着色组合物干燥而在感光性着色组合物层形成工序之后、着色层曝光工序之前，设置對感光性着色组合物层进行预烘焙的工序(着色层预烘焙工序)感光性着色组合物层的预烘焙温度优选为60140°C，更优选为80120°C预烘焙时间优选為30300秒，更优选为80200秒接着，对在本发明的滤色片的制造方法中使用的感光性着色组合物及感光性深色组合物进行详细说明&l;感光性着色组匼物&g;被作为本发明的滤色片的着色图案形成用使用的感光性着色组合物是感放射线性组合物(例如在为负型的情况下，在光的作用下进行固囮的感放射线性组合物)优选含有(A—l)着色剂、(B)粘合剂聚合物、(C一l)聚合性化合物、(D)光聚合引发剂及(E)溶剂，在需要时也可以进一步含有高分孓分散剂或表面活性剂等其他添加物。(A—l)着色剂着色剂可以适当地选择染料颜料系，被作为着色剂使用的颜料可以为无机颜料也可以為有机颜料，但如果考虑最好为高透过率则为了实现滤色片的高亮度化、高对比度化，优选对着色组合物中含有的颜料进行微细化处理在本发明的滤色片中使用的颜料没有色相上的限定。具体而言可以举出茈、紫环酮(perinone)、喹吖啶酮、喹吖啶酮醌、蒽醌、蒽酮垛蒽酮、苯並咪唑酮、二重氮缩合、二重氮、偶氮、标准还原蓝、酞菁、三芳基碳鐵(riarylcarbonium)、二噁嗪、氨基蒽醌、二氧代吡咯并吡咯(dikeopyrrol叩yrrole)、硫靛、异吲哚满、異吲啉酮、皮蒽酮、异宜和蓝酮系颜料或它们的混合物。更具体而言可以举出C丄颜料红190(C丄编号71140)、C.I.颜料红224(C.L编号71127)、C丄颜料紫29(C.I.编号71129)等菲系颜料，C.L颜料橙43(C.I.编号71105)或C.I.颜料红194(C.I.编号71100)等紫环酮系颜料C.I.颜料紫19(C丄编号73900)、C.I.颜料紫42、C丄颜料红122(C.I.编号73915)、C丄颜料红192、C丄颜料红202(C.I.编号73907)、C.I.颜料红207(C丄编号73900、73906)或C.I.颜料紅209(C.I.编号73905)的喹吖啶酮系颜料，C丄颜料红206(C丄编号)、C.I.颜料橙48(C.I.编号73900〃3920)或C.I.颜料橙49(C丄编号)等喹吖啶酮醌系颜料C.I.颜料黄147(C.I.编号60645)等蒽醌系颜料，C.I.颜料红168(C.I.编号59300)等蒽酮垛蒽酮系颜料C.I.颜料褐25(C.I.编号12510)、C.I.颜料紫32(C.I.编号12517)、C.I.颜料黄180(C.I.编号21290)、C.I.颜料黄181(C.I.编号11777)、C.I.颜料橙62(C.I.编号11775)或C.I.颜料红185(C.I.编号12516)等苯并咪唑酮系颜料，C.I.颜料黄93(C.I.编号20710)、C.I.颜料黄94(C丄编号20038)、C.I.颜料黄95(C.I.编号20034)、C.I.颜料黄128(C.I.编号20037)、C丄颜料黄166(C.L编号20035)、C.I.颜料橙34(C.L编号21115)、C.I.颜料橙13(C.I.编号21110)、C.I.颜料橙31(C.I.编号20050)、C.I.颜料红144(C.I.编号20735)、C.I.颜料红166(C.I.编号20730)、C.I.颜料红220(C.I.編号20055)、C.I.颜料红221(C.I.编号20065)、C.I.颜料红242(C.I.编号20067)、C.I.颜料红248、C.I.颜料红262或C.I.颜料褐23(C.I.编号20060)等二重氮縮合系颜料C丄颜料黄13(C.I.编号21100)、C.I.颜料黄83(C.I.编号21108)或C.I.颜料黄188(C.I.编号21094)等二重氮系颜料，C.I.颜料红187(C.I.编号12486)、C.I.颜料红170(C.I.编号12475)、C.I.颜料黄74(C.I.编号11714)、C.I.颜料黄150(C.I.编号48545)、C.I.颜料红48(C.I.编号15865)、C.I.颜料红53(C.I.编号15585)、C.I.颜料橙64(C.I.编号12760)或C.I.颜料红247(C.I.编号15915)等偶氮系颜料C.I.颜料藍60(C.I.编号69800)等标准还原蓝系颜料，C.I.颜料绿7(C.I.编号74260)、C.I.颜料绿36(C,I.编号74265)、C.I.颜料绿37(C.I.编号74255)、C.I.颜料蓝16(C.I.编号74100)、C.I.颜料蓝75(C.L编号74160:2)或15(C.I.编号74160)等酞菁系颜料C.I.颜料蓝56(C.I.编号42訓)或C丄顏料蓝6KC.I.编号42765:1)等三芳基碳鎗系颜料，C丄颜料紫23(C丄编号51319)或C.I.颜料紫37(C.I.编号51345)等二噁嗪系颜料C.I.颜料红177(C.I.编号65300)等氨基蒽醌系颜料，C.I.颜料红254(CI.编号56110)、C.I.颜料红255(C.I.编號561050)、C丄颜料红264、C丄颜料红272(C丄编号561150)、C.I.颜料橙71或C丄颜料橙73等二氧代吡咯并吡咯系颜料C.I.颜料红88(C.I.编号73312)等硫靛系颜料，C.I.颜料黄139(C.I.编号56298)、C.I.颜料橙66(C丄编号48210)等异卩引哚满系颜料C.I.颜料黄109(C丄编号56284)或C丄颜料橙61(C.L编号11295)等异吲啉酮系颜料，C丄颜料橙40(C.I.编号59700)或C.I.颜料红216(C.I.编号59710)等皮蒽酮系颜料或C.I.颜料紫31(60010)等异宜和藍酮系颜料。在本发明的滤色片中也可以组合使用2种以上颜料或颜料的固溶体。另外在本发明的滤色片中，可以优选使用C.I.颜料红254、C.I.颜料红177、C丄颜料红209、C.I.颜料紫23、C.I.颜料黄139、C丄颜料黄185、C丄颜料黄138、C.I.颜料黄150、C.I.颜料蓝15:6、C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料蓝60其中，更优选C.I.颜料绿36、C.I.颜料红254、C丄颜料蓝15:6在本发明的滤色片中，也可以与染料组合使用上述的颜料对可在本发明中使用的染料没有特别限制，可以使用以往被作为滤銫片用使用的染料例如可以使用在特开昭64—90403号公报、特开昭64—91102号公报、特开平1—94301号公报、特开平6—11614号公报、特登2592207号、美国专利第4,808,501号说明書、美国专利第5,667,920号说明书、美国专利第5,059,500号说明书，特开平5—333207号公报、特开平6—35183号公报、特开平6—51115号公报、特开平6—194828号公报、特开平8—211599号公報、特开平4—249549号公报、特开平IO—123316号公报、特开平11—302283号公报、特幵平7—286107号公报、特开2001—4823号公报、特开平8—15522号公报、特开平8—29771号公报、特开平8—146215号公报、特开平11—343437号公报、特开平8一62416号公报、特开2002—14220号公报、特开2002—14221号公报、特开2002—14222号公报、特开2002—14223号公报、特开平8—302224号公报、特开平8—7375S号公报、特开平8—179120号公报、特开平8—151531号公报等中公开的色素作为化学结构，可以使用吡唑偶氮系、苯胺偶氮(anilinoazo)系、三苯甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、亚苄基系、oxonol(才年乂乂一少)系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、菁系、吩噻嗪系、吡咯并吡唑甲亚胺(pyrrolopyrazoUzomehine、b:口口匕°，乂、、一A7、/-于乂)系、氧杂蒽系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系等染料。另外在为水或进行碱显影的抗蚀剂系的情况下，从利用显影完全地除詓光未照射部的粘合剂及/或染料的观点出发有时可以很好地使用酸性染料及/或其衍生物。此外还可以使用直接染料、碱性染料、媒染染料、酸性媒介染料、冰染染料、分散染料、油溶性染料、食品染料、及/或它们的衍生物等。上述酸性染料只要是具有磺酸或羧酸等的酸性基的染料即可没有特别限定，可以考虑相对有机溶剂或显影液的溶解性、与碱性化合物的盐形成性、吸光度、与组合物中的其他成分嘚相互作用、耐光性、耐热性等全部必需性能来选择以下举出上述酸性染料的具体例，但本发明不限定于这些具体例例如可以举出酸性茜素紫(acidalizarinviole)N;酸性黑(acidblack)1，224，48;酸性蓝(acidblue)17，915，1823，2527，2940，4562，7074，8083，8687，9092，103112，113120，129138，147158，171182，192243，324:1;酸性铬紫(acidchromeviole)K;酸性品红(acidFuchsin);酸性绿(acidgreen)13，59，1625，2750;酸性橙(acidorange)6，78，1012，5051，5256，6374，95;酸性红(acidred)14，814，1718，2627，2931，34,3537，4244，5051，5257，6673，8087，8891，9294，97103，111114，129133，134138，143145，150151，158,176183，198211，215216，217249，252257，260266，274;酸性紫(acidviole)6B7，917，19;酸性黄(acidyellow)13，79，1117，2325，29,3436，4254，7273，7679，9899，111112，114116，184243;食用黄(FoodYellow)3;以及这些染料的衍生物。22另外還优选上述以外的偶氮系、氧杂蒽系、酞菁系的酸性染料，还可以优选使用C.I.溶剂蓝(SolvenBlue)44、38;C.I.溶剂橙(Solvenorange)45;若丹明(Rhodamine)B、若丹明(Rhodamine)110等酸性染料及这些染料的衍生粅作为有机色素，例如可以举出偶氮色素、菁色素、部花青色素、香豆素系色素等作为高分子化合物，例如可以举出聚二乙炔、聚酰亞胺等作为颜料的微细化技术，包括机械地粉碎颜料从而微细化的方法(称为磨碎法)；将己溶解于良溶剂的颜料投入到不良溶剂从而使顏料析出成需要的尺寸的方法(称为析出法)；以及在合成时将颜料制造成需要的粒子尺寸的方法(称为合成析出法)等。在本发明中可以根据使用的颜料的合成法或化学性质等选择对于各颜料而言适合的方法，而作为本发明的优选方式从颜料粒子尺寸的(体积平均粒径)/(数均粒径)嘚关系出发，更优选析出法例如，为了在着色像素中含有有机颜料可以通过混合将有机颜料溶解于良溶剂而成的有机颜料溶液和与良溶剂具有互溶性而且相对有机颜料而言比良溶剂的溶解性低的不良溶剂，使有机颜料作为有机颜料粒子析出向上述的黑矩阵形成基板上賦予得到的含有有机颜料粒子的着色组合物来实现。关于在本发明中使用的着色组合物中含有的颜料的粒径有利用计测法进行数值化从洏表现集团的平均的大小的方法，但经常使用的方法是表示分布的最大值的模(Mode)直径、相当于积分分布曲线的中央值的中值(median)径、各种平均直徑(数均、长度平均、面积平均、质均、体积平均等)等在本发明中，只要没有特别说明平均粒径是指数均直径。本发明的颜料的平均粒徑优选为lOOnm以下(例如该大小的结晶或缔合体)更优选为50nm以下。其中本发明的颜料粒子可以为结晶质粒子，也可以为非晶质粒子另外，也鈳以为它们的混合物另外，作为表示粒子的均一性(单分散性)的指标在本发明中，只要没有特别说明使用体积平均粒径(Mv)和数均粒径(Mn)的仳(Mv/Mn)。本发明的颜料纳米粒子(原始粒子)的单分散性(在本发明中单分散性是指粒径一致的比例。)即Mv/Mn为1.02.0,优选为1.0作为颜料粒子的粒径的测定方法可以举出显微镜法、质量法、光散射法、光遮断法、电阻法、音响法、动态光散射法，特别优选显微镜法、动态光散射法作为在显微鏡法中使用的显微镜，例如可以举出扫描型电子显微镜、透射型电子显微镜等作为利用动态光散射法的粒子测定装置，例如可以举出日機装公司制NanoracUPA—EX150、大塚电子公司制Dynamic光散射光度计DLS—7000系列(均为商品名)等以下对各微细化方法进行说明。磨碎法可以优选使用利用球磨机(bo11mill)、砂磨机(sandmill)或捏合机(kneader)等将食盐等水溶性的无机盐等磨碎剂及不溶解磨碎剂的水溶性有机溶剂一起机械混炼(以下将该工序称为盐研磨(salmilling)),然后水洗除詓无机盐和有机溶剂，干燥由此获得需要的比表面积的颜料的方法。其中由于存在颜料因盐研磨处理而其结晶生长的情况，所以在处悝时加入在所述有机溶剂中至少一部分可溶解的固态的树脂或颜料分散剂来防止结晶生长的方法是有效的。颜料和无机盐的比率如果无機盐的比率变多则颜料的微细化效率变好，但由于颜料的处理量变少而生产率降低通常，相对颜料l重量份使用130重量份、优选220重量份無机盐即可。另外将所述水溶性有机溶剂加至颜料和无机盐成为均一的块，虽然根据颜料与无机盐的配合比不同而不同但通常可以使鼡颜料的50300重量％的量。对于所述盐研磨而言更具体而言，向颜料和水溶性的无机盐的混合物中加入少量的水溶性有机溶剂作为湿润剂利用捏合机等强烈地混炼，然后向水中投入该混合物利用高速混合机(high-speedmixer)等进行搅拌成为料浆状。接着对该料浆进行过滤和水洗、干燥，從而得到需要的比表面积的颜料另一方面，析出法是在使有机颜料溶解于适当的良溶剂之后使其与不良溶剂混合，析出需要的比表面積的有机纳米粒子的方法从可以利用溶剂的种类或量、析出温度、析出速度等控制有机纳米粒子尺寸的观点出发，在本发明中最优选關于本发明的有机纳米粒子的形成方法，在本发明中也可以很好地使用在特开2007—219408号公报的段落编号中记载的制作方法在本发明中使用的感光性着色组合物中，通过使用后述的高分子分散剂即使在着色剂的尺寸小的情况下，由于颜料分散性、分散稳定性变得良好所以即使膜厚较薄，也可以形成色纯度出色的着色像素作为在本发明中使用的感光性着色组合物层中的(A—l)着色剂(颜料)的含量，相对该组合物的铨部固体成分(质量)优选为2575质量%，更优选为3270質量％如果(A—1)着色剂(颜料)的含量在所述范围内，则可以有效地保证颜色浓度充分且出色的颜銫特性(B)粘合剂聚合物(binderpolymer)为了提高被膜特性、赋予显影特性等，本发明的所述感光性着色组合物优选含有粘合剂聚合物作为粘合剂聚合物，可以使用下述的碱溶性树脂作为在本发明中使用的碱溶性树脂，可以从作为线状有机高分子聚合物的在分子(优选以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物为主链的分子)中具有至少1个促进碱溶性的基团(例如羧基、磷酸基、磺酸基、羟基等)的碱溶性树脂中适当地选择作为所述堿溶性树脂，更优选在侧链具有羧酸的聚合物例如可以举出在特开昭59—44615号公报、特公昭54—34327号公报、特公昭58—12577号公报、特公昭54—25957号公报、特开昭59—53836号公报、特幵昭59—7104S号公报的各公报中所记载的之类的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸囲聚物、部分酯化马来酸共聚物等以及在侧链具有羧酸的酸性纤维素衍生物、向具有羟基的聚合物加成酸酐而成的产物等丙烯酸系共聚物。作为酸值为10200mgK0H/g、优选为30180mgK0H/g、进而优选为50150mgK0H/g的范围的酸值。就碱溶性树脂的具体构成单元而言特别优选(甲基)丙烯酸与可与其共聚合的其他单體的共聚物。作为所述(甲基)丙烯酸与可共聚合的其他单体可以举出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯系化合物等。在此也鈳以用取代基取代烷基及芳基的氢原子。作为所述(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯可以举出25CH2=C(R1)(COOR3)[在此，R'表示氢原子或碳原子数15的烷基W表示碳原子数l8的烷基或取代烷基，或碳原子数612的芳基]，具体而言可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸甲苯基酯、(甲基)丙烯酸萘基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸羟基烷基酯(垸基为碳原子数18的烷基)、甲基丙烯酸羟基縮水甘油酯、甲基丙烯酸四氢糠酯等。另外还优选在分子侧链具有聚烯化氧链的树脂。作为所述聚烯化氧链可以为聚环氧乙烷链、聚环氧丙垸链、聚四亚甲基二醇链或它们的并用，末端为氢原子或者直链或分支的烷基聚环氧乙垸链、聚环氧丙烷链的重复单元优选为120，更优选为212这些在分子侧链上具有聚烯化氧链的丙烯酸系共聚物例如以聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇一丙二醇)一(甲基)丙烯酸酯等以及己对它们的末端OH基进行烷基封闭而成的化合物例如甲氧基聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚(乙二醇一丙二醇)一(甲基)丙烯酸酯等为共聚合成分的丙烯酸系共聚物。作为所述乙烯系化合物CH2二CR'W[在此，R'表示氢原子或碳原子数15的垸基W表示碳原子数610的芳香族烃环。]具体而言，可以举出苯乙烯、(x—甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、丙烯腈、乙酸基乙烯酯、N—乙烯基吡咯烷酮、聚苯乙烯大分子单体(macromonomer)、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体等可共聚合的其他单体可以单独使用1种或组合使用2种以上。其中特别优选(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸共聚物或(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/其他单体构成的多元共聚物。如上所述丙烯酸系树脂具有20200mgK0H/g的范围的酸徝。如果酸值为200以下则丙烯酸系树脂相对碱的溶解性不会变得过大,进而可以防止显影合理范围(显影范围(laiude))变窄。另一方面如果为20以上，則相对碱的溶解性难以变小所以可以防止显影时间的长时间化。另外为了实现在进行感光性着色组合物的涂布等工序上容易使用的粘喥范围，另外还为了保证膜强度，丙烯酸系树脂的重均分子量Mw(利用GPC法测定的聚苯乙烯换算值)优选为2，更优选为300050，000另外，为了提高夲发明中的感光性着色组合物的交联效率可以单独使用具有聚合性基的碱溶性树脂，或者也可以与不具有聚合性基的碱溶性树脂并用鈳以使用在侧链中含有芳基、芳氧基烷基等的聚合物等。具有聚合性双键的碱溶性树脂可以在碱显影液中进行显影进而还具备光固化性囷热固化性。以下示出含有这些聚合性基的聚合物的例子但只要为在1分子中含有COOH基、OH基等碱溶性基和碳一碳间不饱和键的聚合物即可，鈈被下述所限定(1)利用预先使异氰酸酯基与OH基反应而剩余1个未反应的异氰酸酯基而且至少含有1个(甲基)丙烯酰基的化合物与含有羧基的丙烯酸树脂的反应得到的氨基甲酸脂改性而成的含有聚合性双键的丙烯酸树脂，(2)利用含有羧基的丙烯酸树脂与在分子内同时具有环氧基及聚合性双键的化合物的反应得到的含不饱和基的丙烯酸树脂(3)酸悬垂(pendan)型环氧丙烯酸酯树脂，(4)使含有OH基的丙烯酸树脂和具有聚合性双键的2元酸酐反应而成的含聚合性双键的丙烯酸树脂其中，特别优选(1)及(2)的树脂作为具体例，可以使用使含有对OH基具有反应性的环氧环和碳间不饱和鍵的化合物(例如缩水甘油丙烯酸酯等化合物)向具有OH基的例如丙烯酸2—羟乙酯、含有COOH基的例如甲基丙烯酸和可与它们共聚合的丙烯酸系或乙烯系化合物等的单体的共聚物反应而得到的化合物等。在与OH基的反应中还可以使用除了环氧环以外还具有酸酐、异氰酸酯基、丙烯酰基的化合物。另外还可以使用在特开平6—102669号公报、特开平6—193S号公报中记载的使饱和或不饱和多元酸酐，与具有环氧环的化合物与丙烯酸の类的不饱和羧酸反应得到的化合物反应而得到的反应物作为同时具有COOH基之类的碱溶性基和碳间不饱和基的化合物，例如可以举出带亚那路(夕、、,亇于一少)NR系列(三菱Rayon(株)製)；Phoomer6173(含C00H基的聚氨脂丙烯酸寡聚物(Polyurehaneacrylicoligomer)、DiamondShamrockCo.Ld.,製)；BiscoaR—264、KS抗蚀剂(1/^7卜)106(均为大阪有机化学工业(株)制)；CyclomerP系列、PracsdCF200系列(均为大赛璐囮学工业(株)制)；Ebecry13800(大赛璐一CYEC(株)制)等作为碱溶性树脂的添加量，在感光性着色组合物层的全部固体成分中优选为330质量％的范围，更优选为520質量％在感光性着色组合物的配制时，作为粘合剂聚合物除了所述碱溶性树脂以外，优选还进一步添加下述的环氧树脂作为环氧树脂，可以举出双酚A型环氧树脂、甲酚醛醛清漆(cresolnovolac)型环氧树脂、联苯基型环氧树脂、脂环式环氧化合物等在分子中具有2个以上环氧环的化合物例如，作为双酚A型环氧树脂可以举出爱普特特(工求卜一卜)YD-115、YD-118、YD-127、YD—128、YD-134、YD-8125、YD—7011R、ZX—1059、YDF—8170、YDF—170等(以上为东都化成(株)制)、DENACOLEX—1101、EX—1102、EX—1103等(以上為长濑化成(株)制)、PracselGL—61、GL—62、G101、G102(以上为大赛璐化学工业(株)制)等，此外还可以举出与它们类似的双酚F型、双酚S型环氧树脂。另外还可以使鼡Ebecry13700、3701、600(以上为大赛璐一UCB(株)制)等环氧丙烯酸酯。作为甲酚酚醛清漆型环氧树脂可以举出爱普特特YDPN—638、YDPN—701、YDPN—702、YDPN—703、YDPN—704等(以上为东都化成(株)淛)、DENACOLEM—125等(以上为长濑化成制)；作为联苯基型环氧树脂，可以举出3,53，5'—四甲基一4，4'—二缩水甘油基联苯基等；作为脂环式环氧化合物鈳以举出CELLOXIDE2021、2081、2083、2085、EpolideG—301、G_302、G—401、G—403、EHPE—3150(以上为大赛璐化28学工业(株)制)、散特特(fy卜一卜)S—3000、S—4000、S一5080、S—5100等(以上、东都化成(株)制)、Epic1on430、同673、同695、同850S、哃4032(以上为大日本油墨化学工业(株)制)等。另外还可以使用1，12，2—四(对縮水甘油基氧苯基)乙垸、三(对縮水甘油基氧苯基)甲烷、三縮水甘油基三(羟乙基)三聚异氰酸酯、邻苯二甲酸二縮水甘油酯、对苯二甲酸二缩水甘油酯此外还有作为胺型环氧树脂的爱普特特YH—434、YH—434L、在双酚A型环氧树脂的骨架中改性二聚酸而得的縮水甘油酯等。其中"分子量/环氧环的数目"优选为100以上，更优选为130500如果"分子量/环氧环的数目"小，則固化性高从而固化时的收縮大，另外如果过大，则固化性不足从而缺乏可靠性或平坦性变差。作为具体的优选化合物可以举出愛普特特YD—115、118、127、YDF—170、YDPN—638、YDPN—701、PracselGL—61、GL—62、3，53，5，一四甲基一4,4一二縮水甘油基联苯基、CELLOXIDE2021、2081、EpolideG—302、G—403、EHPE—3150等。(C—1)聚合性化合物在本发明Φ使用的感光性着色组合物优选含有(C一l)聚合性化合物可在本发明中使用的聚合性化合物为具有至少一个乙烯性不饱和双键的加成聚合性囮合物，可以从具有至少1个、优选2个以上末端乙烯性不饱和键的化合物中选出这样的化合物组在该产业领域内是被广泛已知的化合物组，可以在本发明中没有特别限定地使用它们具有例如单体、预聚物即二聚体、三聚体及寡聚物或它们的混合物以及它们的共聚物等化学形态。作为单体及其共聚物的例子可以举出不饱和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)或其酯类、酰胺类&g;可以优选使用不饱和羧酸与脂肪族多元醇化合物的酯、不饱和羧酸与脂肪族多元胺化合物的酰胺类。另外还可以优选使用具有羟基戓氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应产物，以及与单官能或多官能的羧酸的脱水缩合反应产物等另外，还优选具有异氰酸酯基或环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的加成反应物进而具有卤素基或对甲苯磺酰氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺類、硫醇类的取代反应物。另外作为另一个例子，代替上述不饱和羧酸还可以使用置换成不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯醚等的化合物组。在脂肪族多元醇化合物与不饱和羧酸的酯的单体的具体例中作为丙烯酸酯，可以举出乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、13—丁②醇二丙烯酸酯、四亚甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1，4—环己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、聚酯丙烯酸酯寡聚物、三聚异氰酸EO改性三丙烯酸酯等莋为甲基丙烯酸酯，可以举出四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、13—丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、双[p—(3—甲基丙烯酰氧基一2—羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、双[p—(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲垸等。作为衣康酸酯可以举出乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3—丁二醇二衣康酸酯、14一丁二醇二衣康酸酯、四亚甲基②醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯等。作为巴豆酸酯可以举出乙二醇二巴豆酸酯、四亚甲基二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯、山梨糖醇四巴豆酸酯等。作为异巴豆酸酯可以举出乙二醇二异巴豆酸酯、季戊四醇二异巴豆酸酯、山梨糖醇四異巴豆酸酯等。作为马来酸酯可以举出乙二醇二马来酸酯、三甘醇二马来酸酯、季戊四醇二马来酸酯、山梨糖醇四马来酸酯等。作为其怹酯的例子还可以优选使用例如在特公昭51—47334号公报、特幵昭57—196231号公报中记载的脂肪族醇系酯类或在特开昭59—5240号公报、特开昭59—5241号公报、特开平2_226149号公报中记载的具有芳香族系骨架的酯类，在特开平l一165613号公报中记载的含有氨基的酯类等进而，上述酯单体还可以作为混合物使鼡另外，作为脂肪族多元胺化合物与不饱和羧酸的酰胺的单体的具体例可以举出亚甲基双一丙烯酰胺、亚甲基双一甲基丙烯酰胺、1，6—六亚甲基双一丙烯酰胺、16—六亚甲基双一甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、苯二甲基双丙烯酰胺、苯二甲基双甲基丙烯酰胺等。作为其他优选的酰胺系单体的例子可以举出在特公昭54—21726号公报中记载的具有环亚己基结构的酰胺系单体。另外还优选使用异氰酸酯与羟基的加成反应制造而成的氨基甲酸酯系加聚性化合物，作为这样的具体例例如可以举出在特公昭48—41708号公报中记载的向在1分子中具囿2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物中加成由下述通式(V)表示的含有羟基的乙烯系单体而成的在1分子中含有2个以上聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH(V)(其中R"及RS分别独立地表示H或CH3。)另外还优选像在特开昭51—37193号公报、特公平2—32293号公报、特公平2—16765号公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类或在特公昭58_49860号公报、特公昭56—17654号公报、特公昭62_39417号公报、特公昭62—39418号公报中记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化匼物类。进而还可以通过在特开昭63—277653号公报、特开昭63—260909号公报、特开平1—105238号公报中记载的使用在分子内具有氨基结构或硫化物结构的加聚性化合物类，而得到感光速度(speed)非常出色的光聚合性组合物作为其他例子，可以举出像在特开昭48—641S3号公报、特公昭49一43191号公报、特公昭52—30490號公报的各公報中记载的使聚酯丙烯酸酯类、环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应而成的环氧丙烯酸酯类等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯另夕卜，还可以举出在特公昭46—43946号公报、特公平l一40337号公报、特公平1—40336号公报中记载的特定的不饱和化合物或在特开平2—25493号公报中记载的乙烯基膦酸系化合物等另外，在有些情况下还可以优选使用在特开昭61—22048号公报中记载的含有全氟烷基的结构。进而还可以使用在日本接著协会志vo1.20、No.7、300308页(1984年)中作为光固化性单体及寡聚物介绍的酯。对于这些聚合性化合物其结构、单独使用还是并用、添加量等使用方法的具體情况可以结合最终的感光材料的性能设计来任意地设定。例如从如下所述的观点出发，进行选择从感度的点出发，优选每1分子的不飽和基含量多的结构大多优选2官能以上。另外为了提高着色图像部即感光性着色组合物层的强度，优选3官能以上进而，通过并用不哃的官能数*不同的聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物)的化合物来调节感度和强度双方的方法也昰有效的。从固化感度的观点出发优选使用含有2个以上(甲基)丙烯酸酯结构的化合物，更优选使用含有3个以上的化合物最优选使用含有4個以上的化合物。另外从固化感度以及未曝光部的显影性的观点出发，优选含有EO改性体另外，从固化感度以及曝光部强度的观点出发优选含有尿烷键。另外即使就与感光性着色组合物层中的其他成分(例如粘合剂聚合物、引发剂、着色剂(颜料、染料等))的互溶性、分散性而言，加聚化合物的选择使用法也是重要的要因例如利用低纯度化合物的使用或2种以上的并用来提高互溶性。另外为了提高与基板嘚附着力，也可以选择特定的结构从以上的观点出发，可以优选举出双酚A二丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯EO改性体、三羟甲基丙垸三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改性体、二季戊四醇六丙烯酸酯EO妀性体等另外，作为市售品优选UrehaneOligomerUAS—10、UAB—140(日本制纸Chemical公司制)、DPHA(日本化药公司制)、UA—306H、UA—306、UA—3061、AH—600、一600、AI—600(共荣社化学工业制)。其中作为雙酚A二丙烯酸酯EO改性体、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改性体、二季戊四醇六丙烯酸酯EO改性体等的市售品，更优选DPHA(日本化药公司制)、UA—306H、UA—306、UA—3061、AH—600、一600、AI—600(共荣社化学工业制)在本发明的感光性着色组合物层中的全部固体成分中，(C一l)聚合性化合物的含量优选为555质量％更优选为1050质量。％进而优选为1545質量％。(D)光聚合引发剂本发明的感光性着色性组合物优选含有(D)光聚合引发剂所述光聚合引发剂是遇光分解，从而引发、促進所述(C一l)聚合系化合物的聚合的化合物优选为在波长300500nm的区域具有吸收的化合物。另外所述光聚合引发剂可以单独使用或并用使用2种以仩。作为所述光聚合引发剂例如可以举出有机卤素化合物、噁二唑化合物、羰基化合物、酮縮醇化合物、苯偶姻化合物、吖啶化合物、囿机过氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、叠氮化合物、茂金属化合物、六芳基联二咪唑化合物、有机硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯化合物、錄盐化合物、酰基膦(氧化物)化合物。作为有机卤素化合物的具体例可以举出若林等、"BullChem.SocJapan"42、)、美国专利第3，905815号说明书、特公昭46—4605号公报、特开昭48—36281号公报、特开昭55—32070号公报、特开昭60—239736号公报、特开昭61—169835号公报、特开昭61—169837号公报、特开昭62—58241号公报、特开昭62—212401号公报、特开昭63—70243号公报、特开昭63—298339号公报、33M.P.Hu"杂环化学杂志(JournalofHeerocyc1icChemisry)"1(No3)，(1970)"等中记载的化合物特别可以举出三卤甲基发生取代的噁唑化合物、s—三嗪化匼作为s—三嗪化合物，可以更优选举出至少一个一、二或三卤素取代甲基结合于s—三嗪环而成的s—三嗪衍生物作为其具体例，可以举出24，6—三(一氯甲基)一s—三嗪、.24，6—三(二氯甲基)一s—三嗪、24，6—三(三氯甲基)一s—三嗪、2—甲基一46—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—正丙基一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—(ca，卩一三氯乙基)一46—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—苯基一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—(对甲氧基苯基)一46_双(彡氯甲基)_s—三嗪、2—(3，4一环氧基苯基)一46—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—(对氯苯基)一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—[1一(对甲氧基苯基)—24一丁二烯基]一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、2一苯乙烯基一46—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—(对甲氧基苯乙烯基)一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、2_(对异丙氧基苯乙烯基)一4,6一双(三氯甲基)一s—三嗪、2—(对甲苯基)一46—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—(4—萘氧基萘基)一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、2—苯基硫基—46—双(三氯甲基)—s—三嗪、2—苄基硫基一4，6—双(三氯甲基)一s—三嗪、4—(邻溴—对一NN—(二乙氧羰基氨基)一苯基)一2，6—二(三氯甲基)一s—三嗪、24，6—三(二溴甲基)—s—三嗪、24，6—三(三溴甲基)一s—三嗪、2—甲基一46—双(三溴甲基)一s—三嗪、2—甲氧基一4，6—双(三溴甲基)一s—三嗪等作为噁二唑化合物，可以举出2—三氯甲基一5—苯乙烯基一13，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(氰基苯乙烯基)_13，4一噁二唑、2一三氯甲基一5—(萘一l一基)一l3，4—噁二唑、2—三氯甲基一5—(4—苯乙烯基)苯乙烯基一l3，4一噁二唑等作为羰基化合物，可以举出苯甲酮、米蚩酮、2—甲基苯甲酮、3—甲基苯甲酮、4一甲基苯甲酮、2—氯苯甲酮、4一溴苯甲酮、2—羧基苯甲酮等苯甲酮衍生物2，2—二甲氧基一2—苯基乙酰苯、22—②乙氧基乙酰苯、l一羟基环己基苯基甲酮、0C—羟基一2—甲基苯基丙酮、l一羟基一l一甲基乙基一(对异丙基苯基)甲酮、l一羟基一l一(对十二烷基苯基)甲酮、2—甲基一1一(4'一(甲基硫基)苯基)一2—吗啉代一1一丙酮、2—苄基一2—二甲氨基一1一(4一吗啉代苯基)—l一丁酮、2，46—三甲基苯甲酰基一②苯基一氧化膦、1，1l一三氯甲基一(对丁基苯基)甲酮、2—苄基一2—二甲氨基一4一吗啉代丁酰苯等乙酰苯衍生物，噻吨酮、2—乙基噻吨酮、2—异丙基噻吨酮、2—氯噻吨酮、24一二甲基噻吨酮、2，4一二乙基噻吨酮、24—二异丙基噻吨酮等噻吨酮衍生物，对二甲氨基苯甲酸乙酯、對二乙氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等作为酮缩醇化合物，可以举出苄基二甲基缩酮、苄基一P—甲氧基乙基乙缩醛等作为苯偶姻囮合物，可以举出间苯偶姻异丙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶姻甲醚、甲基邻苯甲酰苯甲酸酯等作为吖啶化合物，可以举出9一苯基吖啶、9一吡啶基吖啶、9—吡嗪基吖啶、12—二(9一吖啶基)乙烷、1，3—二(9一吖啶基)丙烷、14一二(9一吖啶基)丁垸、1，5—二(9一吖啶基)戊垸、16_二(9一吖啶基)己垸、1，7—二(9一吖啶基)庚烷、18—二(9一吖啶基)辛烷、1，9一二(9一吖啶基)壬烷、110—二(9一吖啶基)癸垸、1，ll一二(9一吖啶基)十一垸、112—二(9一吖啶基)┿二垸等二(9一吖啶基)链烷等。作为有机过氧化化合物例如可以举出三甲基环己酮过氧化物、乙酰丙酮过氧化物、1，l一双(叔丁基过氧化)一33，5—三甲基环己烷、11—双(叔丁基过氧化)环己烷、2，2—双(叔丁基过氧化)丁垸、叔丁基过氧化氢、枯烯过氧化氢、二异丙基苯过氧化氢、25—二甲基己烷—2，5—二过氧化氢、11，33—四甲基丁基过氧化氢、叔丁基枯基过氧化物、过氧化二异丙苯、2，5—二甲基一25—二(叔丁基過氧化)己'烷、2，5—氧酰基(才年廿/&l;》)过氧化物、过氧化琥珀酸、过氧化苯甲酰、24一二氯苯甲酰过氧化物、二异丙基过氧化二碳酸酯、二一2—乙基己基过氧化二碳酸酯、二一2—乙氧基乙基过氧化二碳酸酯、二甲氧基异丙基过氧化碳酸酯、二(3—甲基一3—甲氧基丁基)过氧化二碳酸酯、叔丁35基过氧化乙酸酯、叔丁基过氧化特戊酸酯、叔丁基过氧化新癸酸酯、叔丁基过氧化辛酸酯、叔丁基过氧化月桂酸酯、3，3'4，4'—四┅(叔丁基过氧化羰基)苯甲酮、33，4，4'—四一(叔己基过氧化羰基)苯甲酮、33，4，4'—四一(对异丙基枯基过氧化羰基)苯甲酮、羰基二(叔丁基過氧化二氢二苯二甲酸酯)、羰基二(叔己基过氧化二氢二苯二甲酸酯)^作为偶氮化合物例如可以举出在特开平8_108621号公报中记载的偶氮化合物等。作为香豆素化合物例如可以举出3—甲基一5—氨基一((s—三嗪一2—基)氨基)一3—苯基香豆素、3—氯一5—二乙氨基一((s—三嗪一2—基)氨基)—3—苯基香豆素、3_丁基—5—二甲基氨基一((s—三嗪一2—基)氨基)一3—苯基香豆素等。作为叠氮化物可以举出在美国专利第2848328号说明书、美国专利第2852379号說明书以及美国专利第2940853号说明书中记载的有机叠氮化物、2，6—双(4一叠氮化物亚苄基)一4一乙基环己酮(BAC—E)等作为茂金属化合物，可以举出在特开昭59—152396号公报、特开昭61—151197号公报、特开昭63—41484号公报、特开平2—249号公报、特开平2—4705号公报、特开平5—8358S号公报中记载的各种二茂钛化合物唎如二一环戊二烯基—i一双一苯基、二—环戊二烯基一i一双—2，6—二氟苯—l一基、二一环戊二烯基一i一双一24—二氟苯一l一基、二一环戊②烯基一i—双一2，46—三氟苯一l一基、二一环戊二烯基一i一双一2，35，6—四氟苯一1—基、二一环戊二烯基一i一双一23，45，6—五氟苯一l一基、二一甲基环戊二烯基一i—双一26—二氟苯—l一基、二一甲基环戊二烯基一i一双一2，46—三氟苯一1一基、二一甲基环戊二烯基一i一双一2，35，6—四氟苯一1一基、二一甲基环戊二烯基一i一双一23，45，6—五氟苯一1一基、在特开平1—304453号公报、特开平l一152109号公报中记载的铁一芳烃(arene)配位化合物等作为六芳基联二咪唑化合物，例如在特公平6—292S5号公报、美国专利第3479，185号、同第4311，783号、同第4622，286号等的各说明书中记载嘚各种化合物具体可以举出2，2'—双(邻氯苯基)_44，5,5，一四苯基联二咪唑、22，一双(邻溴苯基)一44，5，5'—四苯基联二咪唑、22'—双(邻、對二氯苯基)一4，4，55，一四苯基联二咪唑、22，一双(邻氯苯基)一44，5，5'—四(间甲氧基苯基)联二咪唑、22，一双(oo，一二氯苯基)一44，5，5一四苯基联二咪唑、2，2'—双(邻硝基苯基)一44'，55'—四苯基联二咪唑、2，2一双(邻甲基苯基)一4，4，55，一四苯基联二咪唑、22，一雙(邻三氟苯基)_44，5，5'—四苯基联二咪唑等作为有机硼酸盐化合物，例如可以具体举出在特开昭62—143044号公报、特开昭62—150242号公报、特开平9一188685號公報、特开平9—188686号公报、特开平9一188710号公报、特开2000—131837号公报、特开2002—107916号公报、专利第2764769号公报、特开2002—116539号公报等各公报以及KunzMarin"Radech，98.ProceedingApril19—221998，Chicago，等中记载的有机硼酸盐在特开平6—157623号公报、特开平6—175564号公报、特开平6—175561号公报中记载的有机硼锍配位化合物或有机硼氧锍配位化合物，茬特开平6—175554号公报、特开平6—175553号公报中记载的有机硼碘鐺配位化合物在特开平9一188710号公报中记载的有机硼辚配位化合物，在特开平6—3480H号公報、特开平7—128785号公报、特开平7—140589号公报、特开平7—306527号公报、特开平7—292014号公报等的有机硼过渡金属配位化合物等作为二砜化合物的例子，鈳以举出在特开昭61—166544号公报、特开2002—328465号说明书等中记载的化合物等作为肟酯化合物，可以举出在J.C.S.PerkinII(—1660)、J.C.S.PerkinII(—162、光聚合物科学与技术杂志(JournalofPhoopolymerScienceandechnology)(—232、特开2000—66385号公报中记载的化合物在特开2000—80068号公报、特表2004—534797号公报中记载的化合物等。作为具体例优选c汽巴精化公司制的IrgacureOXE—01、0XE—02等。作为鑰盐化合物例如可以举出在S.I.Schlesinger，Phoogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、.S.Ba1ea1聚合物(Po1ymer)，21423(1980)中记载的重氮鎗盐，在美国专利第4069，055号说明书、特开平4一365049号等中记载的铵盐美国专利苐4，069055号说明书、同4，069056号说明书的各说明书中记载的鳞盐，在欧州专利第104、143号说明书、特开平2—150848号公报、特开平2—296514号公报的各公报中记載的碘鐺盐等作为可在本发明中优选使用的碘鑰盐，可以举出二芳基碘鎗盐从稳定性的观点出发，二芳基碘鎿盐优选被2个以上垸基、烷氧基、芳氧基等电子给予性基取代另外，作为其他优选碘錄盐的形态可以举出三芳基碘錄盐的1个取代基具有香豆素、蒽醌结构，在300nm鉯上具有吸收的碘絲盐等作为可在本发明中优选使用的锍盐，可以举出在欧州专利第370693号说明书、同390，214号说明书、同233567号说明书、同297，443號说明书、同297442号说明书、美国专利第4，933377号说明书、同4，760013号说明书、同4，734444号说明书、同2，833827号说明书、德国专利第2，904626号说明书、哃3，604580号说明书、同3，604581号说明书的各说明书中记载的锍盐。从稳定性及感度的点出发锍盐优选被电子吸引性基取代。电子吸引性基优選哈曼特值大于O作为优选的电子吸引性基，可以举出卤原子、羧酸等另外，作为其他优选的锍盐可以举出三芳基锍盐的1个取代基具囿香豆素、蒽醌结构，在300nm以上具有吸收的锍盐作为另一个优选锍盐，可以举出三芳基锍盐具有芳氧基、芳硫基作为取代基的在300nm以上具有吸收的锍盐另外，作为鎗盐化合物可以举出在J.V.Crive11oea1，大分子(Macromo1ecu1es)10(6)，)、J.V.Crivelloeal,J.PolymerSci.PolymerChem.Ed.，17)中记载的硒錄盐，在C.S.Wenealeh，Proc.Conf.Rad.CuringASIA,p478okyo,Oc(1988)中记载的紳盐等鎿盐等作为酰基膦(氧囮物)化合物，可以举出汽巴精化公司制的Irgacure819、Darocur4265、DarocurPO等作为(D)光聚合引发剂，从曝光感度的观点出发优选从三卤甲基三嗪系化合物、苄基二甲基酮縮醇化合物、a—羟基酮化合物、a—氨基酮化合物、酰基膦系化合物、膦化氧系化合物、茂金属化合物、肟系化合物、三芳基咪唑二聚粅、鎿系化合物、苯并噻唑系化合物、苯甲酮系化合物、乙酰苯系化合物及其衍生物、环戊二烯一苯一铁配位化合物及其盐、卤代甲基噁②唑化合物、3—芳基取代香豆素化合物构成的组中选出的化合物。进而优选三卤甲基三嗪系化合物、a—氨基酮化合物、酰基膦系化合物、膦化氧系化合物、肟系化合物、三芳基咪唑二聚物、鐵系化合物、苯甲酮系化合物、乙酰苯系化合物最优选从三卤甲基三嗪系化合物、a—氨基酮化合物、肟系化合物、三芳基咪唑二聚物、苯甲酮系化合物构成的组中选出的至少一种化合物。相对感光性着色组合物层中的全蔀固体成分(D)光聚合引发剂的含量优选为O.120质量％，更优选为O.515质量％特别优选为l10质量％。光聚合引发剂的含量在该范围内的情况下可以嘚到良好的感度和图案形成性。(E)溶剂通常可以使用溶剂配制在本发明中使用的感光性着色组合物作为溶剂，可以举出酯类例如无取代羧酸的酯类(例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、乙酸异丁酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、1，3—丁二醇二乙酸酯)、羟基羧酸或3含氧羧酸的酯类(例如羟基乙酸甲酯、羟基乙酸乙酯、羟基乙酸丁酯、2一羟基一2—甲基丙酸甲酯、2—羟基一2—甲基丙酸乙酯、2—甲氧基一2一甲基丙酸甲酯、2—乙氧基一2—甲基丙酸乙酯、3—羟基丙酸甲酯、3一羟基丙酸乙酯、2—羟基丙酸甲酯、2—羟基丙酸乙酯、2—羟基丙酸丙酯、2—羟基丁酸甲酯、2—羟基丁酸乙酯)、烷氧基甲氧基羧酸的酯类(例如甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、3—甲氧基丙酸甲酯、3—甲氧基丙酸乙酯、3—乙氧基丙酸甲酯、3—乙氧基丙酸乙酯、2—甲氧基丙酸甲酯、2—甲氧基丙酸乙酯、2—甲氧基丙酸丙酯、2—乙氧基丙酸甲酯、2—乙氧基丙酸乙酯)、乙酰基酸的酯类(例如乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯)等；醚类例如二甘醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二甘醇一甲醚、二甘醇一乙醚、二甘醇一丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙②醇丙醚乙酸酯、二甘醇二乙醚、二甘醇一乙醚乙酸酯、二甘醇一丁基醚、二甘醇一丁基醚乙酸酯、丙二醇正丙醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇正丁基醚乙酸酯、丙二醇苯基醚、丙二醇苯基醚乙酸酯、二丙二醇一甲醚乙酸酯、二丙二醇正丙醚乙酸酯、二丙二醇正丁基醚乙酸酯、三丙二醇一正丁基醚、三丙二醇甲醚乙酸酯等；酮类，例如丙酮、甲基乙基甲酮、环己酮、2—庚酮、3—庚酮等醇类，例如乙醇、异丙醇、丙二醇甲醚、丙二醇一正丙醚、丙二醇一正丁醚芳香族烃类，例如甲苯、二甲苯等在这些中，优选3—乙氧基丙酸甲酯、3—乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲醚、乙酸丁酯、3—甲氧基丙酸甲酯、2—庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯等溶剂除了可以单独使用以外，还可以组合使用两种以上一其他添加物一另外，在本发明中使用的感光性着色组合物除了所述成分以外还可以进一步根据需要使用各种公知的添加剂。以下对这样嘚添加剂进行说明(分散剂)本发明中的感光性着色组合物优选含有高分子分散剂。该高分子分散剂为重均分子量处于3000100，000的范围的树脂進而，还优选酸值为20300mg/g以下有时简单地将这样的特定的高分子分散剂称为"分散树脂"。40本发明中的分散树脂是作为所述(A—l)着色剂举出的颜料嘚分散剂或可以在后述的用于形成黑矩阵的感光性深色组合物中发挥出作为遮光剂(黑矩阵形成用颜料)的分散剂的功能的化合物分散树脂甴于必需具有特定的酸值，所以优选为具有酸性基的高分子化合物作为该高分子化合物的高分子骨架，优选从乙烯系单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、聚氨酯系聚合物、酰胺系聚合物、环氧系聚合物、硅酮系聚合物、以及它们的改性物或共聚物[例如包括聚醚/聚氨酯共聚物、聚醚/乙烯系单体的聚合物的共聚物等(可以为无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物的任意一种)。]构成的组中选出的臸少一种更优选从乙烯系单体的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、聚氨酯系聚合物、以及它们的改性物或共聚物构成的组中選出的至少一种，特别优选乙烯系单体的聚合物或共聚物另外，作为向如上所述的高分子骨架中导入酸性基的方法例如可以举出在聚匼所述的高分子骨架时使含有酸性基的单体发生共聚合的方法或在使所述的高分子骨架聚合之后利用高分子反应导入的方法。作为含有酸性基的单体例如可以举出使(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、马来酸、富马酸、肉桂酸、丙烯酸二聚物、乙烯基苯甲酸、苯乙烯磺酸、2—丙烯酰胺一2—甲基丙垸磺酸、磷酸一(甲基)丙烯酰基乙基酯、或甲基丙烯酸2—羟乙酯等含醇式羟基的单体与马来酐、邻苯二甲酸酐等环状酸酐等反应得到的单体等。进而具有酸性基的高分子化合物进而也可以为含有乙烯系单体作为共聚合成分的高分子化合物。作为上述乙烯系单体没有特别限制，例如优选(甲基)丙烯酸酯类、巴豆酸酯类、乙烯基酯类、马来酸二酯类、富马酸二酯类、衣康酸二酯类、(甲基)丙烯酰胺类、乙烯醚类、乙烯醇的酯类、苯乙烯类、(甲基)丙烯腈等作为上述"酸性基"，例如可以优选例举出羧酸基、磺酸基、一硫酸酯基、磷酸基、一磷酸酯基、硼酸基更优选羧酸基、磺酸基、一硫酸酯基、磷酸基、一磷酸酯基，特别优选羧酸基、磺酸基、磷酸基另外，为叻提高分散性还优选含有具有碱性氮原子的基团。所述具有碱性氮原子的基团例如可以优选例举出氨基(一NH》、取代亚氨基(一NHR8、—NR9Rif};在此，R8、R9及R1Q分别独立地表示碳原子数l20的烷基、碳原子数6以上的芳基、碳原子数7以上的芳烷基)、由下述化学式(al)表示的胍基、由下述式(a2)表示的脒基等。所述化学式(al)中R"及RU分别独立地表示碳原子数120的烷基、碳原子数6以上的芳基、或碳原子数7以上的芳垸基。所述化学式(a2)中R"及R"分别独立哋表示碳原子数120的烷基、碳原子数6以上的芳基、碳原子数7以上的芳烷基。其中在氨基(—NH2)、取代亚氨基(一NHR8或一NR911^在此，R8、W及R"分别独立地表示碳原子数110的垸基、苯基或苄基)、由上述化学式(al)表示的胍基[化学式(al)中，R"及R"分别独立地表示碳原子数110的烷基、苯基或苄基]、由上述化学式(a2)表示的脒基[化学式(a2)中，R"及R"分别独立地表示碳原子数110的烷基、苯基或苄基]等中含有由1200个氢原子及020个硫原子构成的基团，它们可以为无取代也可以进一步具有取代基。(其他分散剂)在本发明中使用的感光性着色组合物除了分散树脂以外还可以并用以往公知的分散剂(颜料分散劑)。作为公知的分散剂(颜料分散剂)可以举出高分子分散剂[例如聚酰胺胺和其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物]及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、链醇胺、颜料衍生物等。高分子分散剂可以从其结构进而汾成直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子高分子分散剂具有吸附于颜料的表面、防止再凝集的作用。所以作R"—NHH为优选结构，可以举出具有向颜料表面的固定(anchor)部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子另一方面，颜料衍生物具囿通过改性颜料表面来促进高分子分散剂的吸附的效果。作为可以在本发明中使用的公知的分散剂(颜料分散剂)的具体例可以举出BYKChemie公司淛"Disperbyk—107(羧酸酯)、130(聚酰胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)"、EFKA公司制"EFKA4047、4050、4010、4165(聚氨酯系)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酯酰胺)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮颜料衍生物)"、味之素精细化学公司制"AJISPERPB821、PB822"、共荣社化学公司制"甫洛兰(7口一ky)G—710(聚氨酯寡聚物)"、"PolyflowNo.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)"、楠本化荿公司制"Disparon弁7004(聚醚酯)、DA—703—50、DA—705、DA—725"、花王公司制"Emulgen920、930、935、985(聚氧化乙烯壬基苯醚)"、"阿赛它敏(7ir夕S力86(硬脂酰胺乙酸酯)"、Lubrizol公司制"Solspers5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顔料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(在末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)"、日光亇5力小公司制"聂括卢(二:y〕一》)106(聚氧乙烯山梨糖醇酐一油酸酯)、MYS—IEX(聚氧乙烯一硬脂酸酯)"等。根据需要在相对分散树脂为10100质量％即分散剂/分散树脂=1/101/1(等量)的范围内使用如上所述的公知的分散剂。(表面活性剂)如果加大颜料浓度则涂布液的触变性(于年V)通常变大，所以在基板上涂布或转印感光性着色组合物从而形成感光性着色组合物層(着色层涂膜)之后容易产生膜厚不均另外，尤其在利用缝隙涂敷法形成感光性着色组合物层(着色层涂膜)时感光性着色组合物层形成用嘚涂布液在干燥之前进行涂平(levelling)从而形成均一厚度的涂膜是很重要的。因此优选在所述感光性着色组合物中含有适当的表面活性剂。作为所述表面活性剂可以优选举出在特开2003—337424号公报、特开平ll一号公报中公开的表面活性剂。作为用于提高涂布性的表面活性剂可以添加非離子系表面活性剂、氟系表面活性剂、硅系表面活性剂等。作为非离子系表面活性剂优选例如聚氧乙二醇类、聚氧化丙二醇类、聚氧乙烯烷基醚类、聚氧乙烯烷基芳基醚类、聚氧乙烯烷基酯类、聚氧丙烯烷基醚类、聚氧丙烯垸基芳基醚类、聚氧丙烯垸基酯类、山梨糖醇酐烷基酯类、一甘油酯烷基酯类等非离子系表面活性剂。具体而言包括聚氧乙二醇、聚氧化丙二醇等聚氧亚垸基二醇类；聚氧乙烯月桂醚、聚氧丙烯硬脂醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧亚烷基烷基醚类；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基化醚、聚氧乙烯三苄基苯基醚、聚氧乙烯一丙烯聚苯乙烯基化醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚类；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧亚烷基二烷基酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧亚烷基山梨糖醇酐脂肪酸酯类等非离子系表面活性剂。这些具体例可以适当地使用AdecaPluronic系列、Adecanol系列、eronic系列(鉯上为ADEKA(株)制)、Emulgen系列、Reodol系列(以上为花王(株)制)、Eleminol系列、Nonipol系列、Ocapole系列、Dodecapol系列、Newpol系列(以上为三洋化成(株)制)、Pionin系列(以上为竹本油脂(株)制)、NissanNonion系列(以上为ㄖ本油脂(株)制)等可以适当地使用这些市售的非离子性表面活性剂。HLB值优选为820更优选为1017。作为氟系表面活性剂可以优选使用在末端、主链及侧链的至少任意一个部位具有氟垸基或氟亚烷基的化合物。作为具体的市售品例如MegafacFl42D、同F172、同F173、同F176、同F177、同F183、同780、同781、同R30、同R08(大日夲油墨(株)帝U)、FluoradFC—135、同FC—170C、同FC—430、同FC—431(住友3M(株)制)、SurflonS—112、同S—113、同S—131、同S—141、同S—145、同S—382、同SC—101、同SC—102、同SC—103、同SC—104、同SC—105、同SC—106(旭硝子(株)帝ij)、EfopEF351、同352、同801、同802(JEMC0(株)制)等。作为硅酮系表面活性剂例如可以举出oraySiliconeDC3PA、同DC7PA、同SH11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA、同SH—190、同SH—193、同SZ—6032、同SF—8428、同DC—57、同DC—190(以上為DowCorningoraySilicone(株)制)、SF—4440、SF—4300、SF—4445、SF—4446、SF—4460、SF—4452(以上为迈图高新材料公司(MomenivePerformanceMaerialsJapan)(株)第lj)等相对用于形成感光性着色组合物层的涂布液100质量份，这些表面活性剂优選以5质量份以下、更优选以2质量份以下使用在表面活性剂的量超过5质量份的情况下，涂布干燥时容易发生表面粗糙从而平滑性变得容噫恶化。另外为了促进未固化部的碱溶解性从而进一步提高光固化性组合物的显影性，可以添加有机羧酸、优选分子量为1000以下的低分子量有机羧酸具体而言，例如可以举出甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、特戊酸、己酸、二乙基乙酸、庚酸(enanhicacid)、辛酸等脂肪族一元羧酸；草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸(subericacid)、壬二酸(azelaicacid)、癸二酸(sebacicacid)、巴西二酸、甲基丙二酸(mehylmalonicacid)、乙基丙二酸、二甲基丙二酸、甲基琥珀酸、四甲基琥珀酸、柠康酸等脂肪族二元羧酸；丙三羧酸、乌头酸(aconiicacid)、樟脑三酸等脂肪族三羧酸；安息香酸、甲苯甲酸(oluicadd)、枯茗酸(cuminicacid)、二甲基苯甲酸(hemelliicadd)、35—二甲基苯甲酸等芳香族一元羧酸；邻苯二甲酸、异苯二甲酸、对苯二甲酸、苯偏三酸、苯均三酸、苯偏四酸(mellophanicacid)、苯均四酸(py腿elliicacid)等芳香族多元羧酸；苯基乙酸、苯氧基乙酸、甲氧基丙氧基乙酸、氢化阿托酸(hydraropicadd)、氢化肉桂酸、扁桃酸(mandelicacid)、苯基琥珀酸、阿托酸(aropicacid)、肉桂酸、肉桂酸甲酯、肉桂酸节酯、亚肉桂基乙酸、香豆酸、伞形酸(umbellicacid)等其他羧酸。(垸氧基硅烷化合物)从提高与基板的附着力的观点出发可以在本发奣中使用的感光性着色组合物中使用烷氧基硅烷化合物，其中优选使用硅烷偶合剂硅烷偶合剂优选具有烷氧基甲硅垸基作为可与无机材料化学键合的水解性基，优选为与有机树脂之间形成相互作用或键而示出亲合性的(甲基)丙烯酰基、苯基、巯基、或具有环氧基的硅烷其Φ，更优选为(甲基)丙烯酰基丙基三甲氧基硅烷作为使用硅垸偶合剂时的添加量，在本发明中使用的感光性着色组合物层中的全部固体成汾中优选为O.25.0质量％的范围，更优选为0.53.0质量％(共增感剂)优选在本发明中使用的感光性着色组合物在必要时也含有共增感剂。在本发明中共增感剂具有进一步提高增感色素或引发剂对活性放射线的}