数字光刻复杂电路系统曝光平台控制电路设计

点击联系发帖人 时间：2017-11-11 08:45

光刻复杂电路

【摘要】：介绍了一些新的光刻複杂电路技术及光刻复杂电路技术的极限和发展前景

何龙庆;林继成;石冰;;[J];安庆师范学院学报(自然科学版);2006年04期

王伊卿,赵文轸,唐一平,卢秉恒;[J];兵器材料科学与工程;2000年03期

刘建海,陈开盛,曹庄琪;[J];半导体技术;2001年08期

余国彬,姚汉民,胡松,陈兴俊;[J];微纳电子技术;2002年04期

杜惊雷,石瑞英,崔铮,郭永康;[J];微纳电子技术;2002年11期

田丰,韩立,杨忠山;[J];微纳电子技术;2003年12期

伊福廷,张菊芳,彭良强,韩勇;[J];微纳电子技术;2003年Z1期

刘景全,蔡炳初,陈迪,朱军,赵小林,杨春生;[J];微纳电子技术;2003姩Z1期

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： IC关键装备及超精密制造技术直接体现了一个国家的制造技术水平和能力光刻复杂电路工艺对芯片产业发展的起到决定性作用。运动控制系统作为光刻复杂电路机样机實现的最核心部分所以设计并实现复杂的运动控制系统是光刻复杂电路机样机的关键技术所在。

　　本文首先分析了所设计的功率放大控制板卡在整个复杂的光刻复杂电路机运动控制系统的物理位置通过在对整个控制系统对板卡的功能需求和对板卡实际工作...

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